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半导体器件制造工艺及设备
积分和二阶滑模控制在光刻机双工件台系统中的应用
闭环迭代学习策略及其在光刻机精密运动平台中的应用
精密六自由度运动机构动态性能优化研究
周期性二维微纳光学结构的制备
大尺寸硅片抛光前道工序对抛光效果的影响研究
步进—闪光式纳米压印模板之力学分析
基于超声的锡基钎料芯片键合界面反应机制
基于Monte Carlo方法的RIE工艺模拟
光学光刻工艺中的光强分布模拟
等离子体刻蚀的动力学模型及三维模拟
半导体封装行业制造执行系统的研究与应用
基于PrAlNiCu金属玻璃薄膜的相变光刻机理研究
冰冻固结磨料抛光单晶锗薄片的机理与工艺研究
HfO_x镶嵌结构的CMP及其机理研究
基于表面等离子干涉原理的周期减小光刻技术研究
硅微通道板化学机械抛光及微通道整形技术研究
诱导坑制备及其对宏孔硅光电化学腐蚀的影响
硅微结构金属辅助化学刻蚀技术研究
多光束全息光刻制作纳米阵列图形的研究
仿生蛾眼抗反射微结构光学机理研究
切割钢丝湿拉断丝研究
Power QFN器件封装中第二焊点脱落问题及改进的研究
半导体晶圆匀胶系统在线缺陷检测方法研究
C4F8/Ar等离子体刻蚀SiO2的多尺度研究
微坑阵列模具掩膜电化学刻蚀研究
基于PLC的半导体洁净室空调控制系统的设计与应用
静压液浮大面积电致化学抛光试验台研制
基于多像素扫描调制的数字光刻方法研究
基于真空紫外光表面活化的硅基晶圆低温直接键合研究
精密机械平台摩擦特性的建模和补偿方法
基于无穷刚度和零刚度复合作用的主动负刚度隔微振技术
基于像素表征的光刻掩模优化方法研究
化学机械抛光中颗粒运动与材料去除的实验研究
高数值孔径投影光刻物镜的光学设计
极紫外光刻物镜系统光学设计研究
曲面微纳结构的静电诱导成形原理与工艺研究
硅基纳米孔阵列制造技术基础研究
多孔阳极氧化铝的“逆向工程”—刻蚀研究
碘化铯荧光量子点增强光刻胶光刻效果的研究
基于纳米压印技术的亚波长结构减反射膜的制备与研究
DRAM栅极等离子刻蚀制程中颗粒污染问题的改善
大气等离子抛光定量去除方法研究
砷化镓表面化学约束刻蚀的有限元仿真及实验研究
基于365nm LED光源的无掩模数字光刻特性研究
半导体生产线动态维护策略研究
太阳能硅片电磨削多线切割技术基础研究
深紫外光刻投影物镜热像差仿真研究
高NA投影光刻物镜波像差检测技术研究
磁控溅射法制备硅碳氮薄膜的研究
基于机器视觉的刀口运动特性测量技术
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