| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 主要符号对照表 | 第9-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-30页 |
| 1.1 研究的背景和意义 | 第11-12页 |
| 1.2 固态纳米孔制备方法研究现状 | 第12-25页 |
| 1.2.1 离子束钻刻和雕刻纳米孔 | 第12-14页 |
| 1.2.2 电子束钻刻和雕刻纳米孔 | 第14-18页 |
| 1.2.3 离子径迹刻蚀纳米孔 | 第18页 |
| 1.2.4 电子束光刻技术辅助的反应离子刻蚀纳米孔 | 第18-20页 |
| 1.2.5 金属辅助化学刻蚀硅纳米孔 | 第20-21页 |
| 1.2.6 电化学阳极氧化纳米孔 | 第21-22页 |
| 1.2.7 淀积材料和热处理收缩固态纳米孔 | 第22-25页 |
| 1.3 固态纳米孔制造面临的挑战 | 第25-27页 |
| 1.3.1 固态纳米孔制造面临的挑战 | 第25页 |
| 1.3.2 锥形硅基纳米孔的优势 | 第25-27页 |
| 1.4 本研究主要内容和贡献 | 第27-30页 |
| 1.4.1 研究主要内容 | 第28页 |
| 1.4.2 本研究主要贡献和创新点 | 第28-30页 |
| 第2章 金属辅助等离子体刻蚀硅基纳米孔阵列 | 第30-45页 |
| 2.1 等离子体刻蚀单晶硅 | 第30-34页 |
| 2.1.1 等离子体刻蚀系统 | 第30-31页 |
| 2.1.2 等离子体刻蚀单晶硅常用气体 | 第31-32页 |
| 2.1.3 等离子体刻蚀单晶硅机理 | 第32-33页 |
| 2.1.4 影响刻等离子体刻蚀速率的因素 | 第33-34页 |
| 2.2 金属辅助等离子体刻蚀硅基纳米孔阵列 | 第34-44页 |
| 2.2.1 刻蚀机理及建模分析 | 第34-37页 |
| 2.2.2 金属类型对刻蚀的影响 | 第37-39页 |
| 2.2.3 金属颗粒大小对刻蚀的影响 | 第39-40页 |
| 2.2.4 刻蚀剂配比对刻蚀的影响 | 第40-41页 |
| 2.2.5 等离子体功率对刻蚀的影响 | 第41页 |
| 2.2.6 晶体晶向对刻蚀的影响 | 第41-43页 |
| 2.2.7 晶体掺杂类型对刻蚀的影响 | 第43-44页 |
| 2.3 本章小结 | 第44-45页 |
| 第3章 湿法刻蚀硅基纳米孔阵列 | 第45-77页 |
| 3.1 单晶硅各向异性湿法刻蚀 | 第45-51页 |
| 3.1.1 单晶硅的晶体结构 | 第45-47页 |
| 3.1.2 单晶硅各向异性湿法刻蚀剂 | 第47-48页 |
| 3.1.3 各向异性湿法刻蚀机理 | 第48-50页 |
| 3.1.4 掩膜层的选择 | 第50-51页 |
| 3.2 ICP辅助湿法刻蚀硅基纳米孔阵列 | 第51-58页 |
| 3.2.1 工艺流程设计 | 第51-52页 |
| 3.2.2 湿法刻蚀过程分析 | 第52-55页 |
| 3.2.3 ICP刻蚀结果分析 | 第55-56页 |
| 3.2.4 纳米孔阵列的制备与检测 | 第56-58页 |
| 3.2.5 纳米孔形状控制 | 第58页 |
| 3.3 纯湿法刻蚀硅基纳米孔阵列 | 第58-76页 |
| 3.3.1 工艺流程设计与优化 | 第59-60页 |
| 3.3.2 单面湿法刻蚀设备的设计与制造 | 第60-62页 |
| 3.3.3 单面湿法刻蚀过程及结果分析 | 第62-65页 |
| 3.3.4 离子电流反馈式纳米孔释放 | 第65-68页 |
| 3.3.5 颜色反馈式纳米孔释放 | 第68-75页 |
| 3.3.6 湿法刻蚀纳米孔内部结构分析 | 第75-76页 |
| 3.4 本章小结 | 第76-77页 |
| 第4章 硅基纳米孔阵列可控收缩 | 第77-95页 |
| 4.1 干氧氧化收缩硅基纳米孔现象 | 第77-78页 |
| 4.2 平面硅干氧氧化模型 | 第78-80页 |
| 4.3 锥面硅干氧氧化理论分析与建模 | 第80-83页 |
| 4.4 干氧氧化收缩锥形硅基纳米孔数值模拟 | 第83-86页 |
| 4.5 干氧氧化缩孔实验与模拟结果的比较 | 第86-88页 |
| 4.6 锥形硅基纳米孔阵列的可控收缩 | 第88-89页 |
| 4.7 收缩后纳米孔剖面结构分析 | 第89-91页 |
| 4.8 FIB切割纳米孔过程中的缩孔现象 | 第91-93页 |
| 4.9 本章小结 | 第93-95页 |
| 第5章 硅基纳米孔阵列在纳米掩膜光刻中的应用 | 第95-108页 |
| 5.1 纳米掩膜光刻概述 | 第95-96页 |
| 5.2 纳米掩膜光刻的模板 | 第96-97页 |
| 5.3 基于锥形硅基纳米孔阵列的纳米掩膜光刻平台 | 第97-100页 |
| 5.4 接触式纳米掩膜光刻制造纳米图案阵列 | 第100-103页 |
| 5.5 非接触式纳米掩膜光刻制造微米图案阵列 | 第103-106页 |
| 5.6 本章小结 | 第106-108页 |
| 第6章 结论和展望 | 第108-110页 |
| 参考文献 | 第110-123页 |
| 致谢 | 第123-125页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第125-127页 |