砷化镓表面化学约束刻蚀的有限元仿真及实验研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 课题来源及研究的背景和意义 | 第8-9页 |
| 1.1.1 课题的来源 | 第8页 |
| 1.1.2 课题研究的背景和意义 | 第8-9页 |
| 1.2 国内外研究现状与分析 | 第9-15页 |
| 1.2.1 约束刻蚀剂层技术的实验研究 | 第9-12页 |
| 1.2.2 约束刻蚀剂层技术的仿真研究 | 第12-15页 |
| 1.3 论文主要研究内容 | 第15-16页 |
| 第2章 约束刻蚀剂层技术仿真分析模型 | 第16-29页 |
| 2.1 引言 | 第16页 |
| 2.2 三维静态约束刻蚀有限元分析 | 第16-24页 |
| 2.2.1 三维静态约束刻蚀有限元模型 | 第17-19页 |
| 2.2.2 静态约束刻蚀模型设置 | 第19-20页 |
| 2.2.3 扩散系数及反应速率常数的确定 | 第20-21页 |
| 2.2.4 三维静态约束刻蚀有限元分析 | 第21-24页 |
| 2.3 三维动态约束刻蚀有限元分析 | 第24-28页 |
| 2.3.1 三维动态约束刻蚀有限元模型 | 第24-25页 |
| 2.3.2 动态约束刻蚀模型设置 | 第25-26页 |
| 2.3.3 三维动态约束刻蚀有限元分析 | 第26-28页 |
| 2.4 本章小结 | 第28-29页 |
| 第3章 三维静态约束刻蚀仿真分析 | 第29-42页 |
| 3.1 引言 | 第29页 |
| 3.2 静态约束刻蚀工件表面加工轮廓计算方法研究 | 第29-33页 |
| 3.2.1 基于刻蚀深度反馈的轮廓计算方法 | 第30-32页 |
| 3.2.2 刻蚀轮廓计算方法的合理性讨论 | 第32-33页 |
| 3.3 静态约束刻蚀剂层技术仿真分析 | 第33-41页 |
| 3.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 三维动态约束刻蚀仿真分析 | 第42-65页 |
| 4.1 引言 | 第42页 |
| 4.2 动态约束刻蚀工件表面加工轮廓计算方法研究 | 第42-45页 |
| 4.3 动态约束刻蚀剂层技术仿真分析 | 第45-58页 |
| 4.3.1 电极平动工作模式 | 第45-51页 |
| 4.3.2 电极旋转工作模式 | 第51-58页 |
| 4.4 平整加工技术工艺参数研究 | 第58-63页 |
| 4.5 本章小结 | 第63-65页 |
| 第5章 约束刻蚀剂层技术实验研究 | 第65-75页 |
| 5.1 引言 | 第65页 |
| 5.2 基于约束刻蚀剂层技术的微纳加工平台的搭建 | 第65-67页 |
| 5.2.1 三电极体系约束刻蚀实验 | 第65-66页 |
| 5.2.2 约束刻蚀微纳加工平台 | 第66-67页 |
| 5.3 约束刻蚀实验及表征方法 | 第67-68页 |
| 5.3.1 约束刻蚀实验过程 | 第67页 |
| 5.3.2 刻蚀结果的表征 | 第67-68页 |
| 5.4 约束刻蚀实验结果及分析 | 第68-73页 |
| 5.5 本章小结 | 第73-75页 |
| 结论 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-81页 |
| 致谢 | 第81页 |
