| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 目录 | 第11-14页 |
| 第1章 绪论 | 第14-24页 |
| 1.1 静电诱导光刻技术 | 第14-21页 |
| 1.1.1 平面模板的静电诱导图案化技术 | 第14-16页 |
| 1.1.2 结构化模板的静电诱导图案化技术 | 第16-18页 |
| 1.1.3 电场诱导实验过程动态观察 | 第18-19页 |
| 1.1.4 静电诱导光刻技术的理论研究及仿真分析 | 第19-21页 |
| 1.2 论文的主要工作 | 第21-24页 |
| 第2章 静电诱导液体聚合物薄膜流变成形理论分析 | 第24-40页 |
| 2.1 电场诱导理论基础 | 第24-32页 |
| 2.1.1 薄膜的稳定性 | 第24-25页 |
| 2.1.2 液体薄膜的动力学分析 | 第25-28页 |
| 2.1.3 静电场作用下聚合物内部的压强分析 | 第28-31页 |
| 2.1.4 散射关系 | 第31-32页 |
| 2.2 曲面基底上聚合物薄膜的电流体动力学分析 | 第32-38页 |
| 2.2.1 聚合物薄膜的流体动力学分析 | 第33-36页 |
| 2.2.2 线性稳定性分析 | 第36-37页 |
| 2.2.3 散射关系 | 第37-38页 |
| 2.3 本章小结 | 第38-40页 |
| 第3章 静电诱导图案化技术的加工极限及多级结构的仿真分析 | 第40-68页 |
| 3.1 水平集方法(Level-Set Method) | 第40-42页 |
| 3.2 多物理场模型的建立和分析 | 第42-45页 |
| 3.2.1 微结构化模板电场诱导过程多场耦合有限元建模 | 第42-43页 |
| 3.2.2 微结构化模板电场诱导瞬态成形模型建立 | 第43-45页 |
| 3.3 仿真结果与分析 | 第45-54页 |
| 3.3.1 微结构化模板电场诱导瞬态成形仿真 | 第45-47页 |
| 3.3.2 电场诱导光刻技术加工极限的判断准则 | 第47-49页 |
| 3.3.3 影响电场诱导加工极限主要因素仿真分析 | 第49-54页 |
| 3.4 电场诱导多级结构的仿真分析 | 第54-66页 |
| 3.4.1 电场诱导多级结构瞬态成形模型建立 | 第54-58页 |
| 3.4.2 影响电场诱导多级结构成形主要因素仿真分析 | 第58-63页 |
| 3.4.3 多级中空微流道形成过程的仿真与分析 | 第63-66页 |
| 3.5 本章小结 | 第66-68页 |
| 第4章 毛细力光刻技术 | 第68-80页 |
| 4.1 基于温度辅助的毛细力光刻技术实现多级结构的制备 | 第68-79页 |
| 4.1.1 实验原理 | 第69页 |
| 4.1.2 实验材料及PDMS模板准备 | 第69-70页 |
| 4.1.3 实验结果和讨论 | 第70-77页 |
| 4.1.4 光学性能检测 | 第77-79页 |
| 4.2 本章小结 | 第79-80页 |
| 第5章 曲面基底上静电诱导的仿真分析及实验研究 | 第80-98页 |
| 5.1 曲面基底上静电诱导模型的有限元分析 | 第80-91页 |
| 5.1.1 模型的建立 | 第80-83页 |
| 5.1.2 曲面基底上微结构化模板静电诱导过程仿真分析 | 第83-84页 |
| 5.1.3 结果和讨论 | 第84-91页 |
| 5.2 曲面基底上静电诱导模型的实验研究 | 第91-96页 |
| 5.2.1 实验工艺流程 | 第91-92页 |
| 5.2.2 实验结果与讨论 | 第92-95页 |
| 5.2.3 光学性能检测 | 第95-96页 |
| 5.3 本章小结 | 第96-98页 |
| 第6章 基于静电诱导光刻技术实现模板光栅条纹的复制 | 第98-114页 |
| 6.1 聚合物薄膜的归一化演化方程 | 第98-100页 |
| 6.2 微结构模板的压强分析 | 第100-103页 |
| 6.3 液体聚合物薄膜在非均匀电场作用下的三维形貌演化的数值模拟 | 第103-110页 |
| 6.4 实验研究 | 第110-112页 |
| 6.5 本章小结 | 第112-114页 |
| 第7章 总结与展望 | 第114-116页 |
| 7.1 论文工作总结 | 第114-115页 |
| 7.2 论文主要创新 | 第115页 |
| 7.3 未来工作展望 | 第115-116页 |
| 参考文献 | 第116-126页 |
| 在学期间学术成果情况 | 第126-128页 |
| 指导教师及作者简介 | 第128-130页 |
| 致谢 | 第130页 |
