基于像素表征的光刻掩模优化方法研究

摘要	第4-6页
Abstract	第6-7页
1 绪论	第10-19页
1.1 课题概述	第10-13页
1.2 掩模优化方法发展趋势及研究现状	第13-17页
1.3 论文主要研究工作	第17-19页
2 光刻掩模优化问题描述与掩模质量评价标准	第19-30页
2.1 引言	第19-20页
2.2 光刻掩模优化问题描述	第20-22页
2.3 光刻掩模成像质量评价标准	第22-26页
2.4 光刻掩模可制造性评价标准	第26-27页
2.5 掩模成像质量评价标准计算准确度测试	第27-28页
2.6 本章小结	第28-30页
3 光刻掩模可制造性增强方法	第30-54页
3.1 引言	第30-31页
3.2 光刻系统模型及其快速计算方法	第31-35页
3.3 掩模滤波基本原理与掩模滤波器设计	第35-36页
3.4 基于滤波的掩模优化流程	第36-41页
3.5 掩模滤波器仿真分析	第41-46页
3.6 基于滤波的掩模优化结果仿真分析	第46-52页
3.7 本章小结	第52-54页
4 光刻掩模鲁棒优化方法	第54-71页
4.1 引言	第54-55页
4.2 包含工艺参数的光刻系统模型	第55-58页
4.3 基于统计的鲁棒掩模优化模型	第58-59页
4.4 基于统计的鲁棒掩模优化流程	第59-62页
4.5 鲁棒的掩模优化结果仿真分析	第62-69页
4.6 本章小结	第69-71页
5 光刻掩模优化快速计算方法	第71-87页
5.1 引言	第71-72页
5.2 掩模优化方向及迭代步长计算方法	第72-75页
5.3 基于瀑布式多重网格算法的掩模优化流程	第75-77页
5.4 光刻掩模优化快速计算方法仿真分析	第77-86页
5.5 本章小结	第86-87页
6 总结与展望	第87-90页
6.1 全文总结	第87-89页
6.2 研究展望	第89-90页
参考文献	第90-98页
致谢	第98-99页
附录1 攻读博士学位期间发表的期刊论文目录	第99-100页
附录2 攻读博士学位期间申请的国家发明专利	第100-101页
附录3 攻读博士学位期间参会经历和所获奖励	第101页