| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-22页 |
| 1.1 课题的背景及研究的目的和意义 | 第9-11页 |
| 1.2 周期性二维微纳结构的研究现状 | 第11-19页 |
| 1.2.1 周期性二维微纳结构的光学特性研究 | 第11-15页 |
| 1.2.2 微纳结构制备工艺的发展概述 | 第15-19页 |
| 1.3 自组装技术的应用 | 第19-20页 |
| 1.3.1 自组装在光学传感器及光学元件中的应用 | 第19页 |
| 1.3.2 自组装在修饰性膜材料中的应用 | 第19页 |
| 1.3.3 自组装在纳米材料中的应用 | 第19-20页 |
| 1.3.4 自组装在生物科学中的应用 | 第20页 |
| 1.4 本课题主要研究内容 | 第20-22页 |
| 第2章 单层自组装结构的研究 | 第22-32页 |
| 2.1 引言 | 第22页 |
| 2.2 自组装形成单层结构的机理 | 第22-25页 |
| 2.2.1 自组装原理 | 第22-25页 |
| 2.2.2 自组装作为微纳米加工方式的特点 | 第25页 |
| 2.3 自组装单层微纳结构的材料 | 第25-26页 |
| 2.4 自组装过程中影响因素的分析 | 第26-31页 |
| 2.4.1 基片表面亲水性 | 第27页 |
| 2.4.2 聚苯乙烯微球的单分散特性 | 第27-28页 |
| 2.4.3 微球溶液配比 | 第28-29页 |
| 2.4.4 微球溶液注射状态 | 第29-30页 |
| 2.4.5 表面活性剂的使用 | 第30页 |
| 2.4.6 成膜时间 | 第30-31页 |
| 2.4.7 单层膜转移方法 | 第31页 |
| 2.5 本章小结 | 第31-32页 |
| 第3章 基于聚苯乙烯微球自组装的模板制备 | 第32-42页 |
| 3.1 引言 | 第32页 |
| 3.2 基于PS微球自组装的单层周期二维结构 | 第32-38页 |
| 3.2.1 实验装置设计 | 第33-34页 |
| 3.2.2 基片表面预处理 | 第34-35页 |
| 3.2.3 聚苯乙烯微球溶液配制 | 第35页 |
| 3.2.4 注射微球 | 第35页 |
| 3.2.5 添加表面活性剂 | 第35-36页 |
| 3.2.6 成膜转移 | 第36-38页 |
| 3.3 基于反应离子刻蚀的纳米压印模板制备 | 第38-41页 |
| 3.3.1 反应离子刻蚀研究 | 第38-39页 |
| 3.3.2 RIE参数影响分析 | 第39-40页 |
| 3.3.3 压印模板制备 | 第40-41页 |
| 3.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 基于纳米压印的周期性二维微纳光学结构的制备 | 第42-59页 |
| 4.1 引言 | 第42页 |
| 4.2 纳米压印技术的工艺分析 | 第42-49页 |
| 4.2.1 纳米压印技术 | 第42页 |
| 4.2.2 压印胶的填充与脱模 | 第42-44页 |
| 4.2.3 纳米压印前准备 | 第44-46页 |
| 4.2.4 纳米压印技术工艺参数分析 | 第46-49页 |
| 4.3 周期性二维微纳结构的制备 | 第49-54页 |
| 4.3.1 纳米压印工艺流程 | 第49-53页 |
| 4.3.2 正交周期二维微纳结构的制备结果 | 第53-54页 |
| 4.4 光学性能分析 | 第54-58页 |
| 4.4.1 光学性能数值分析 | 第54-56页 |
| 4.4.2 光学性能测试 | 第56-58页 |
| 4.5 本章小结 | 第58-59页 |
| 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 致谢 | 第65页 |