| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-22页 |
| 1.1 无掩模光刻技术 | 第8-14页 |
| 1.1.1 电子束光刻技术 | 第8-9页 |
| 1.1.2 聚焦离子束光刻技术 | 第9-10页 |
| 1.1.3 干涉光刻技术 | 第10-11页 |
| 1.1.4 波带片阵列光刻技术 | 第11-12页 |
| 1.1.5 数字无掩模光刻技术 | 第12-14页 |
| 1.2 分辨率增强技术研究现状分析 | 第14-21页 |
| 1.2.1 离轴照明技术 | 第14-16页 |
| 1.2.2 相移掩模技术 | 第16-17页 |
| 1.2.3 光学邻近效应校正技术 | 第17-19页 |
| 1.2.4 光源-掩模优化技术 | 第19-20页 |
| 1.2.5 数字分形掩模技术 | 第20-21页 |
| 1.3 论文的主要研究工作 | 第21-22页 |
| 第2章 多像素扫描调制移动光刻技术的理论研究 | 第22-33页 |
| 2.1 引言 | 第22页 |
| 2.2 多像素扫描调制移动光刻技术原理 | 第22-23页 |
| 2.3 仿真模拟研究 | 第23-32页 |
| 2.3.1 改善成像质量可行性验证 | 第23-27页 |
| 2.3.2 扫描步数对成像质量的影响 | 第27-30页 |
| 2.3.3 倾斜角度θ 对成像质量的影响 | 第30-32页 |
| 2.4 总结 | 第32-33页 |
| 第3章 基于多像素扫描调制移动光刻技术的 3D微结构制作 | 第33-46页 |
| 3.1 引言 | 第33页 |
| 3.2 3D微结构的制作原理 | 第33-34页 |
| 3.3 目标剂量分布的计算 | 第34-35页 |
| 3.4 累积剂量分布的理论模型 | 第35-38页 |
| 3.5 微透镜数字掩模设计方法 | 第38-45页 |
| 3.5.1 多像素单方向扫描 | 第38-41页 |
| 3.5.2 多像素单方向曝光区域优化 | 第41-43页 |
| 3.5.3 二元掩模图形的边缘优化处理 | 第43-45页 |
| 3.6 总结 | 第45-46页 |
| 第4章 实验研究 | 第46-71页 |
| 4.1 引言 | 第46页 |
| 4.2 多像素扫描调制系统 | 第46-48页 |
| 4.2.1 多像素扫描调制系统设计 | 第46-47页 |
| 4.2.2 多像素扫描调制系统工作原理 | 第47-48页 |
| 4.3 实验制作工艺 | 第48-49页 |
| 4.4 实验制作 | 第49-69页 |
| 4.4.1 实验主要参数 | 第49-50页 |
| 4.4.2 光刻胶特性曲线测试 | 第50页 |
| 4.4.3 单张掩模单方向移动扫描实验 | 第50-55页 |
| 4.4.4 多像素单方向扫描制作微透镜实验 | 第55-62页 |
| 4.4.5 多像素单方向曝光区域优化制作微透镜实验 | 第62-69页 |
| 4.5 总结 | 第69-71页 |
| 第5章 结论和展望 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-78页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和参加科研情况说明 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |