光学光刻工艺中的光强分布模拟
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-12页 |
| 1.1 研究背景 | 第8-9页 |
| 1.2 本课题的工作及意义 | 第9-10页 |
| 1.3 论文内容安排 | 第10-12页 |
| 第二章 光刻模拟技术 | 第12-24页 |
| 2.1 光学系统模拟 | 第12-16页 |
| 2.1.1 接触式/接近式光刻系统 | 第13-14页 |
| 2.1.2 投影式光刻系统 | 第14-16页 |
| 2.2 衍射模拟 | 第16-21页 |
| 2.2.1 标量衍射理论 | 第16-18页 |
| 2.2.2 矢量衍射理论 | 第18-21页 |
| 2.3 光刻胶模拟 | 第21-22页 |
| 2.3.1 光刻胶及其性能评价指标 | 第21页 |
| 2.3.2 光化学反应机理 | 第21-22页 |
| 2.4 本章小结 | 第22-24页 |
| 第三章 光刻全过程框架 | 第24-30页 |
| 3.1 曝光 | 第25-27页 |
| 3.2 后烘 | 第27-28页 |
| 3.3 显影 | 第28-29页 |
| 3.4 本章小结 | 第29-30页 |
| 第四章 基于波导法的光强分布模型 | 第30-52页 |
| 4.1 二维WG数学模型 | 第31-40页 |
| 4.1.1 垂直入射 | 第31-39页 |
| 4.1.2 倾斜入射 | 第39页 |
| 4.1.3 提取光强分布 | 第39-40页 |
| 4.2 三维WG数学模型 | 第40-47页 |
| 4.2.1 三维特征值公式 | 第40-42页 |
| 4.2.2 边界条件 | 第42-47页 |
| 4.2.3 入射场振幅 | 第47页 |
| 4.3 算法流程介绍 | 第47-50页 |
| 4.4 本章小结 | 第50-52页 |
| 第五章 模拟结果与实验分析 | 第52-70页 |
| 5.1 垂直光刻模型结果 | 第52-62页 |
| 5.1.1 光强分布模拟 | 第52-60页 |
| 5.1.2 三维显影形貌分析 | 第60-62页 |
| 5.2 倾斜入射模型结果 | 第62-67页 |
| 5.2.1 光强分布模拟 | 第62-66页 |
| 5.2.2 三维显影形貌分析 | 第66-67页 |
| 5.3 算法性能 | 第67-69页 |
| 5.4 本章小结 | 第69-70页 |
| 第六章 总结与展望 | 第70-72页 |
| 6.1 总结 | 第70-71页 |
| 6.2 展望 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-78页 |
| 作者简介 | 第78页 |
