基于365nm LED光源的无掩模数字光刻特性研究
| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| 1.1 本课题的研究背景 | 第11-12页 |
| 1.2 光刻技术介绍 | 第12-16页 |
| 1.2.1 有掩模光刻 | 第13-14页 |
| 1.2.2 无掩模光刻 | 第14-16页 |
| 1.3 光刻光源介绍 | 第16-17页 |
| 1.4 本文研究内容 | 第17-19页 |
| 第二章 DMD的特性研究 | 第19-26页 |
| 2.1 DMD简介 | 第19-21页 |
| 2.1.1 DMD的发展历程 | 第19页 |
| 2.1.2 DMD的构造和原理 | 第19-21页 |
| 2.2 DMD的灰度特性 | 第21-23页 |
| 2.3 DMD的结构特性 | 第23页 |
| 2.4 DMD的光学特性 | 第23-25页 |
| 2.4.1 DMD的衍射特性 | 第23-24页 |
| 2.4.2 DMD的反射特性 | 第24-25页 |
| 2.5 本章小结 | 第25-26页 |
| 第三章 照明系统的研究 | 第26-37页 |
| 3.1 常用光刻光源系统 | 第26-29页 |
| 3.1.1 高压汞灯 | 第26-27页 |
| 3.1.2 紫外激光器 | 第27-28页 |
| 3.1.3 UV-LED | 第28-29页 |
| 3.2 UV-LED物理特性的研究 | 第29-32页 |
| 3.2.1 UV-LED的电学特性 | 第29-31页 |
| 3.2.2 UV-LED的光学特性 | 第31页 |
| 3.2.3 UV-LED的热学特性 | 第31-32页 |
| 3.3 常用准直光路 | 第32-33页 |
| 3.4 常用匀光单元 | 第33-35页 |
| 3.5 光刻系统中照明系统关键技术参数 | 第35-36页 |
| 3.5.1 照明系统的像差 | 第35页 |
| 3.5.2 照明系统出射光的均匀度 | 第35-36页 |
| 3.5.3 照明系统与投影系统的匹配 | 第36页 |
| 3.6 本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 照明系统的设计与仿真 | 第37-42页 |
| 4.1 LED光源的特性 | 第37页 |
| 4.2 基于复眼透镜的照明系统匀光设计 | 第37-38页 |
| 4.3 模拟仿真与分析 | 第38-41页 |
| 4.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 第五章 投影镜头的匹配与光刻实验 | 第42-48页 |
| 5.1 设计要求 | 第42-43页 |
| 5.1.1 数字光刻设计特点 | 第42页 |
| 5.1.2 光学材料选取 | 第42页 |
| 5.1.3 系统结构 | 第42-43页 |
| 5.1.4 像差校正 | 第43页 |
| 5.2 投影镜头的设计与结果 | 第43-46页 |
| 5.3 光刻实验 | 第46-47页 |
| 5.4 本章小结 | 第47-48页 |
| 总结与展望 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-54页 |
| 攻读学位期间发表的论文及申请的专利 | 第54-57页 |
| 致谢 | 第57页 |
