高数值孔径投影光刻物镜的光学设计

摘要	第5-7页
Abstract	第7-9页
目录	第10-12页
第1章 绪论	第12-40页
1.1 课题研究背景及意义	第12-23页
1.2 国内外的发展现状	第23-37页
1.3 论文的主要研究内容	第37-40页
第2章 高NA投影光刻物镜的设计优化	第40-86页
2.1 投影光刻物镜的像质评价	第40-48页
2.2 高NA投影光刻物镜的基本设计指标	第48页
2.3 光学设计初始输入条件	第48-58页
2.4 高NA投影光刻物镜的结构形式	第58-60页
2.5 高NA投影光刻物镜的设计结果	第60-66页
2.6 同轴两反式投影光刻物镜的设计结果分析	第66-77页
2.7 波像差自动平衡算法	第77-85页
2.8 本章小结	第85-86页
第3章 高NA投影光刻物镜的像质补偿	第86-112页
3.1 基于Zernike系数的公差敏感度分析	第86-93页
3.2 光学复算	第93-98页
3.3 计算机辅助装调	第98-110页
3.4 本章小结	第110-112页
第4章 高NA投影光刻物镜的偏振像差	第112-136页
4.1 标量成像与矢量成像	第112-116页
4.2 偏振照明与偏振像差	第116-120页
4.3 偏振像差的描述方式	第120-127页
4.4 琼斯光瞳奇异值分解	第127-135页
4.5 本章小结	第135-136页
第5章 总结与展望	第136-138页
5.1 工作总结	第136页
5.2 主要创新点	第136-137页
5.3 工作展望	第137-138页
参考文献	第138-146页
在学期间学术成果情况	第146-148页
指导教师及作者简介	第148-149页
致谢	第149页