大气等离子抛光定量去除方法研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 课题来源及研究的背景和意义 | 第9-10页 |
| 1.1.1 课题来源 | 第9页 |
| 1.1.2 研究背景和意义 | 第9-10页 |
| 1.2 国内外在该方向的研究现状 | 第10-14页 |
| 1.2.1 超光滑表面加工国内外发展状况 | 第10-14页 |
| 1.3 国内外大气等离子抛光研究状况 | 第14-16页 |
| 1.4 主要研究内容 | 第16-18页 |
| 第2章 等离子抛光系统组成与加工方法 | 第18-29页 |
| 2.1 等离子体产生方式 | 第18-20页 |
| 2.2 大气等离子体加工模型 | 第20-21页 |
| 2.2.1 大气等离子体射流模式 | 第20-21页 |
| 2.2.2 在大气等离子体接触式放电模式 | 第21页 |
| 2.3 大气等离子抛光过程 | 第21-22页 |
| 2.4 大气等离子抛光系统介绍 | 第22-25页 |
| 2.5 材料去除模型 | 第25-26页 |
| 2.6 驻留时间算法 | 第26-28页 |
| 2.7 本章小结 | 第28-29页 |
| 第3章 硅片加工仿真与分析 | 第29-39页 |
| 3.1 离散去除加工方法 | 第29-32页 |
| 3.1.1 收敛比 | 第29页 |
| 3.1.2 离散加工方法 | 第29-30页 |
| 3.1.3 加工轨迹类型 | 第30-32页 |
| 3.2 硅片加工仿真 | 第32-35页 |
| 3.2.1 硅片仿真加工效果 | 第32-33页 |
| 3.2.2 边缘效应 | 第33-34页 |
| 3.2.3 卷积效应 | 第34-35页 |
| 3.3 面型误差对等离子束修行能力的影响 | 第35-38页 |
| 3.3.1 理论分析 | 第35-37页 |
| 3.3.2 误差频率影响仿真 | 第37-38页 |
| 3.4 本章小结 | 第38-39页 |
| 第4章 等离子体化学反应过程分析 | 第39-51页 |
| 4.1 模型建立 | 第39-41页 |
| 4.1.1 一般化学反应模型 | 第39-40页 |
| 4.1.2 电子碰撞分解 | 第40页 |
| 4.1.3 三体化学反应 | 第40-41页 |
| 4.2 CF_4/O_2/HE混合粒子分解路径 | 第41-42页 |
| 4.3 沉积性粒子聚合及其消耗路径 | 第42-44页 |
| 4.3.1 沉积性粒子聚合 | 第42-43页 |
| 4.3.2 沉积性粒子消耗路径 | 第43-44页 |
| 4.4 化学反应仿真结果与讨论 | 第44-50页 |
| 4.4.1 高流量仿真结果分析 | 第44-48页 |
| 4.4.2 低流量仿真结果分析 | 第48-50页 |
| 4.5 本章小结 | 第50-51页 |
| 第5章 等离子加工工艺参数确定与实验验证 | 第51-67页 |
| 5.1 大气等离子实验检测方法 | 第51-53页 |
| 5.1.1 大气等离子成分检测分析 | 第51-52页 |
| 5.1.2 大气等离子温度测量方法 | 第52-53页 |
| 5.2 大气的离子抛光相关工艺参数的实验探究 | 第53-60页 |
| 5.2.1 He流量对F浓度的影响 | 第53-55页 |
| 5.2.2 CF_4流量对F浓度的影响 | 第55-56页 |
| 5.2.3 O_2流量的影响 | 第56-57页 |
| 5.2.4 加工距离的影响及确定 | 第57-58页 |
| 5.2.5 加工时间对加工温度稳定性的影响 | 第58-60页 |
| 5.3 实际加工效果 | 第60-66页 |
| 5.3.1 定量去除加工 | 第60-63页 |
| 5.3.2 长时间沉积优化效果 | 第63-64页 |
| 5.3.3 抛物面加工效果 | 第64-65页 |
| 5.3.4 等离子抛光效果 | 第65-66页 |
| 5.4 本章小结 | 第66-67页 |
| 结论 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-73页 |
| 附录 | 第73-76页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第76-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
