碘化铯荧光量子点增强光刻胶光刻效果的研究
| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7页 |
| 第一章 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 微电子技术的发展 | 第9页 |
| 1.2 半导体光刻技术 | 第9-12页 |
| 1.3 光刻工艺流程 | 第12-13页 |
| 1.4 紫外和深紫外光刻技术 | 第13-15页 |
| 1.5 X射线光刻 | 第15页 |
| 1.6 线条边缘粗糙程度及线宽粗糙度 | 第15-16页 |
| 1.7 传统光学光刻的极限 | 第16-17页 |
| 1.8 光刻胶的性能的改善 | 第17-18页 |
| 1.9 荧光量子点的光学特性 | 第18-19页 |
| 1.10 本文的研究思路 | 第19-20页 |
| 第二章 碘化铯荧光量子点光刻胶的制备 | 第20-32页 |
| 2.1 碘化铯分子的光学特性 | 第20-23页 |
| 2.2 碘化铯量子点制备的尝试 | 第23-26页 |
| 2.3 碘化铯分子的溶剂的选择 | 第26页 |
| 2.4 碘化铯分子量子点对光刻胶膜光学特性的改善 | 第26-30页 |
| 2.5 AZ4330光刻胶 | 第30-31页 |
| 2.6 小结 | 第31-32页 |
| 第三章 碘化铯量子点光刻胶提高分辨率 | 第32-54页 |
| 3.1 碘化铯分子的光学特性 | 第32页 |
| 3.2 量子点碘化铯分子的作用 | 第32-33页 |
| 3.3 实验方法 | 第33-39页 |
| 3.4 实验结果与讨论 | 第39-52页 |
| 3.5 碘化铯荧光量子点增强X射线光刻 | 第52-53页 |
| 3.6 小结 | 第53-54页 |
| 第四章 碘化铯分子量子点改善光刻的理论模型 | 第54-59页 |
| 4.1 碘化铯分子量子点改善光刻胶的理论模型 | 第54-56页 |
| 4.2 碘化铯量子点对线条边缘影响的估计 | 第56-58页 |
| 4.3 小结 | 第58-59页 |
| 第五章 结论与展望 | 第59-60页 |
| 5.1 主要工作与创新点 | 第59页 |
| 5.2 展望 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 致谢 | 第64-66页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文目录 | 第66页 |
