| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 第1章 引言 | 第8-16页 |
| 1.1 课题背景和意义 | 第8-10页 |
| 1.2 现有颗粒去除模型 | 第10-13页 |
| 1.2.1 流体动压模型 | 第11页 |
| 1.2.2 固体接触模型 | 第11-12页 |
| 1.2.3 流体剪切模型 | 第12-13页 |
| 1.3 抛光液成分对抛光过程的影响 | 第13-14页 |
| 1.4 颗粒观测技术 | 第14-15页 |
| 1.5 本课题的主要研究内容 | 第15-16页 |
| 第2章 实验装置和方法 | 第16-25页 |
| 2.1 引言 | 第16页 |
| 2.2 荧光颗粒观测系统及实验方法 | 第16-22页 |
| 2.2.1 荧光观测系统 | 第16-19页 |
| 2.2.2 主要实验材料及制备过程 | 第19-21页 |
| 2.2.3 实验流程与方法 | 第21-22页 |
| 2.3 实际抛光实验 | 第22-23页 |
| 2.3.1 实际抛光设备 | 第22-23页 |
| 2.3.2 实验材料制备 | 第23页 |
| 2.3.3 实验流程与方法 | 第23页 |
| 2.4 实验中用到的分析仪器 | 第23-24页 |
| 2.4.1 zeta电位测试仪 | 第23-24页 |
| 2.4.2 三维白光干涉表面形貌仪 | 第24页 |
| 2.5 本章小结 | 第24-25页 |
| 第3章 颗粒运动行为及影响因素试验研究 | 第25-40页 |
| 3.1 引言 | 第25页 |
| 3.2 颗粒的运动规律、分布与影响因素 | 第25-32页 |
| 3.2.1 实验参数与方法 | 第25-27页 |
| 3.2.2 载玻片条件下颗粒运动速度随硫酸钾浓度变化规律 | 第27-30页 |
| 3.2.3 蓝宝石条件下颗粒运动速度随硫酸钾浓度变化规律 | 第30-32页 |
| 3.3 抛光垫和抛光晶片表面的颗粒吸附情况 | 第32-35页 |
| 3.4 摩擦力矩随硫酸钾浓度变化规律 | 第35-36页 |
| 3.5 颗粒与抛光垫的ZETA电位测量 | 第36-39页 |
| 3.6 本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 蓝宝石抛光材料去除率和表面质量的影响因素研究 | 第40-46页 |
| 4.1 引言 | 第40页 |
| 4.2 抛光过程材料去除率的影响因素研究 | 第40-44页 |
| 4.2.1 实验参数与方法 | 第40页 |
| 4.2.2 不同压力下离子强度对材料去除率的影响 | 第40-44页 |
| 4.3 结果分析 | 第44-45页 |
| 4.4 本节小结 | 第45-46页 |
| 第5章 离子环境中颗粒与表面作用的理论分析 | 第46-71页 |
| 5.1 引言 | 第46页 |
| 5.2 双电层力的计算 | 第46-52页 |
| 5.3 离子浓度对颗粒运动行为影响 | 第52-69页 |
| 5.3.1 颗粒运动速度的理论计算与实际对比 | 第52-69页 |
| 5.3.2 结果分析 | 第69页 |
| 5.5 本章小结 | 第69-71页 |
| 第6章 总结与展望 | 第71-73页 |
| 6.1 总结 | 第71-72页 |
| 6.2 展望 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-77页 |
| 致谢 | 第77-79页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第79页 |
