| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第13-64页 |
| 1.1 阳极氧化的相关概念 | 第13-18页 |
| 1.1.1 电解液中金属电极的行为 | 第14-16页 |
| 1.1.2 阀金属及其阳极氧化 | 第16-18页 |
| 1.2 铝的阳极氧化 | 第18-37页 |
| 1.2.1 阳极氧化铝研究与应用的早期历史 | 第18-19页 |
| 1.2.2 纳米时代阳极氧化铝的研究与应用 | 第19-26页 |
| 1.2.2.1 基于PAA模板的纳米材料合成 | 第20-22页 |
| 1.2.2.2 PAA自身的功能特性研究 | 第22-26页 |
| 1.2.3 阳极氧化铝膜的分类 | 第26-28页 |
| 1.2.4 阻挡型膜的生长机理及特性 | 第28-37页 |
| 1.2.4.1 基本的化学反应 | 第29页 |
| 1.2.4.2 强场离子传导 | 第29-31页 |
| 1.2.4.3 离子迁移数 | 第31-33页 |
| 1.2.4.4 晶体结构 | 第33页 |
| 1.2.4.5 电解液物质的掺入与双层结构的形成 | 第33-37页 |
| 1.3 PAA的基本结构和组成 | 第37-41页 |
| 1.3.1 形貌结构 | 第37-40页 |
| 1.3.2 双层结构 | 第40-41页 |
| 1.4 PAA的生长过程 | 第41-47页 |
| 1.4.1 生长过程的四阶段 | 第41-43页 |
| 1.4.2 PAA的稳态生长 | 第43-47页 |
| 1.4.2.1 阻挡层o/e界面的物理化学过程 | 第43-44页 |
| 1.4.2.2 自有序PAA及其自组织机制 | 第44-47页 |
| 1.5 PAA生长过程中的电场分布 | 第47-49页 |
| 1.6 阳极氧化铝的生长应力 | 第49-54页 |
| 1.6.1 应力的起源 | 第49-50页 |
| 1.6.2 应力的测量 | 第50-51页 |
| 1.6.3 PAA的应力驱动生长 | 第51-54页 |
| 1.7 阳极氧化铝的刻蚀（溶解）研究 | 第54-60页 |
| 1.7.1 化学溶解的研究手段 | 第54-56页 |
| 1.7.2 PAA的化学溶解机制 | 第56-57页 |
| 1.7.3 化学溶解分析提供的信息 | 第57页 |
| 1.7.4 基于化学刻蚀的PAA结构工程 | 第57-60页 |
| 1.8 本论文的研究内容 | 第60-64页 |
| 1.8.1 目前在PAA机理研究方面存在的若干问题 | 第60-61页 |
| 1.8.2 本论文的研究目的和内容 | 第61-62页 |
| 1.8.3 论文的创新点和意义 | 第62-64页 |
| 第二章 实验方法 | 第64-75页 |
| 2.1 PAA的生长制备 | 第64-69页 |
| 2.1.1 实验原料 | 第64-66页 |
| 2.1.2 阳极氧化装置 | 第66-67页 |
| 2.1.3 工艺流程 | 第67-69页 |
| 2.2 PAA的刻蚀方法 | 第69-70页 |
| 2.2.1 湿化学刻蚀（溶解） | 第69页 |
| 2.2.2 物理法刻蚀（离子束研磨） | 第69-70页 |
| 2.3 样品的测试与表征 | 第70-75页 |
| 2.3.1 正面刻蚀过程的原位电化学测试 | 第70-73页 |
| 2.3.2 显微结构表征 | 第73-75页 |
| 第三章 双层结构PAA正面刻蚀研究 | 第75-104页 |
| 3.1 引言 | 第75-78页 |
| 3.1.1 PAA的双层结构 | 第75-76页 |
| 3.1.2 填孔法在研究PAA刻蚀过程中的不足 | 第76-78页 |
| 3.2 脉冲阳极化测试 | 第78-88页 |
| 3.2.1 强场电导的瞬态效应 | 第79-87页 |
| 3.2.2 稳态强场离子传导的特性 | 第87-88页 |
| 3.3 PAA正面化学刻蚀过程的电化学分析 | 第88-98页 |
| 3.3.1 原位电化学测试 | 第88-91页 |
| 3.3.2 阻挡层内的电场分布 | 第91-93页 |
| 3.3.3 胶质层存在的可能性及双层结构的形成 | 第93-98页 |
| 3.4 热处理对内外层溶解速率的影响 | 第98-103页 |
| 3.5 本章小结 | 第103-104页 |
| 第四章 PAA阻挡层的背面刻蚀研究 | 第104-129页 |
| 4.1 引言 | 第104-106页 |
| 4.2 阻挡层在背面刻蚀过程中的形貌演化 | 第106-114页 |
| 4.2.1 刻蚀前PAA的基本结构 | 第106-107页 |
| 4.2.2 湿化学法刻蚀（溶解） | 第107-111页 |
| 4.2.3 物理法刻蚀（离子束研磨） | 第111-114页 |
| 4.3 阻挡层背面刻蚀的六方各向异性 | 第114-127页 |
| 4.3.1 刻蚀各向异性的显著度及出现条件 | 第116-118页 |
| 4.3.2 刻蚀各向异性的可能起源：应力因素 | 第118-121页 |
| 4.3.3 元胞内阻挡层的应力各向异性及其起源 | 第121-124页 |
| 4.3.4 应力各向异性与PAA自组织过程 | 第124-127页 |
| 4.4 本章小结 | 第127-129页 |
| 第五章 基于刻蚀的PAA结构工程 | 第129-149页 |
| 5.1 PAA的结构工程概述 | 第129-131页 |
| 5.2 漏斗形PAA的制备 | 第131-135页 |
| 5.3 滴管形PAA的制备 | 第135-143页 |
| 5.3.1 制备流程 | 第135-140页 |
| 5.3.2 正面刻蚀的各向异性 | 第140-143页 |
| 5.4 PAA内层六方骨架的提取 | 第143-146页 |
| 5.5 本章小结 | 第146-149页 |
| 结论 | 第149-153页 |
| 参考文献 | 第153-185页 |
| 攻读博士学位期间取得的研究成果 | 第185-186页 |
| 致谢 | 第186-187页 |
| 附件 | 第187页 |