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半导体器件制造工艺及设备
GLSI多层铜布线低压力低磨料浓度CMP工艺与材料的研究
GLSI多层铜布线碱性抛光液稳定性的研究
GLSI多层铜布线碱性粗抛液平坦化效率的研究
CMP对低k介质材料的影响及其优化方法研究
碱性抛光液速率稳定性的研究
新型铜互连阻挡层材料Co的CMP研究
气液固三相磨粒流抛光加工装置设计及其加工实验研究
干涉光刻法制备任意图形微纳结构及其SERS应用的研究
半导体器件与集成电路的ESD防护技术研究与实现
基于DMD的数字光刻技术研究
基于全息光刻法的红外光子晶体薄膜的研制
主动自由曲面补偿光学系统像差研究
基于SU-8光刻胶的微透镜及阵列的研究
SU-8厚胶精密整平关键技术研究
基于超声振动的硅片边缘抛光研究
碲镉汞表面处理工艺研究
自定义照明模式分辨力增强技术研究
局域表面等离子体纳米光刻原理与方法研究
基于扩展Zernike多项式的投影物镜全视场像差优化研究
投影光刻机中的线阵CCD高速检焦技术研究
基于天然DNA自组装图案的尺寸可控微影技术
电容耦合等离子体中离子能量分布的研究
刻蚀和沉积工艺腔室的理论仿真及实验验证
含螺噁嗪的光致变色薄膜微纳周期结构制备技术研究
硅微通道板化学机械抛光及氧化绝缘技术研究
大面积复合纳米压印光刻机的研究与开发
离子束抛光KDP光学元件关键技术研究
ZnS光学元件离子束抛光技术研究
磁流变抛光过程抛光液水分含量自动控制方法与系统研究
半导体金线键合可靠性研究
纳米压印光刻机精密定位工作台设计与研究
三丝绞合电镀金刚石线锯切割晶体硅的性能研究
光纤点衍射干涉仪波面参考源研究
用于非球面检测的计算全息图制作研究
高硬度氧化物的研磨抛光技术研究
B2H6源掺杂溅射制备透明导电ZnO薄膜的研究
DMD投影光刻系统的开发设计及其在光刻、液晶光控取向方面的应用
半导体外延生长对光刻对准的影响
集成电路中球形缺陷问题研究和解决方法
新型研磨垫在化学机械研磨制程中的应用
阵列波导器件耦合封装机理及其关键技术研究
高晶向精度的单晶硅定晶向放电切割进电特性及工艺研究
激光投影光刻机光学对位技术研究
计算机控制的反应离子刻蚀系统及刻蚀研究
电子束光刻的Monte Carlo模拟及邻近效应校正技术研究
激光干涉光刻织构化硅表面及微摩擦性能研究
湿法刻蚀与清洗中晶圆缺陷问题的研究
连接孔干法蚀刻工艺的研究与改善
晶片表面结晶型缺陷的介绍及预防措施的探究
面向NPSS的滚对平面纳米压印光刻机的研究与开发
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