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半导体器件制造工艺及设备
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光刻、掩膜
65nm先进节点OPC后续修补方法的研究
深亚微米光刻工艺中套刻优化方法的应用研究
基于STM32的自动控制刻蚀系统
复合结构光栅大范围高精度光刻对准技术研究
多自由度精密运动平台机械参数软测量方法
主从式宏微定位平台的分数阶控制方法研究
面向非线性特性的超精密平台辨识和控制方法
积分和二阶滑模控制在光刻机双工件台系统中的应用
闭环迭代学习策略及其在光刻机精密运动平台中的应用
精密六自由度运动机构动态性能优化研究
周期性二维微纳光学结构的制备
步进—闪光式纳米压印模板之力学分析
基于Monte Carlo方法的RIE工艺模拟
光学光刻工艺中的光强分布模拟
等离子体刻蚀的动力学模型及三维模拟
基于PrAlNiCu金属玻璃薄膜的相变光刻机理研究
基于表面等离子干涉原理的周期减小光刻技术研究
诱导坑制备及其对宏孔硅光电化学腐蚀的影响
硅微结构金属辅助化学刻蚀技术研究
多光束全息光刻制作纳米阵列图形的研究
仿生蛾眼抗反射微结构光学机理研究
C4F8/Ar等离子体刻蚀SiO2的多尺度研究
微坑阵列模具掩膜电化学刻蚀研究
基于多像素扫描调制的数字光刻方法研究
精密机械平台摩擦特性的建模和补偿方法
基于无穷刚度和零刚度复合作用的主动负刚度隔微振技术
基于像素表征的光刻掩模优化方法研究
高数值孔径投影光刻物镜的光学设计
极紫外光刻物镜系统光学设计研究
曲面微纳结构的静电诱导成形原理与工艺研究
硅基纳米孔阵列制造技术基础研究
多孔阳极氧化铝的“逆向工程”—刻蚀研究
碘化铯荧光量子点增强光刻胶光刻效果的研究
基于纳米压印技术的亚波长结构减反射膜的制备与研究
DRAM栅极等离子刻蚀制程中颗粒污染问题的改善
砷化镓表面化学约束刻蚀的有限元仿真及实验研究
基于365nm LED光源的无掩模数字光刻特性研究
深紫外光刻投影物镜热像差仿真研究
高NA投影光刻物镜波像差检测技术研究
基于机器视觉的刀口运动特性测量技术
表面等离子体超分辨光刻装置关键技术研究
半导体0.18um工艺金属层MUV光刻技术研究及优化
电子束光刻的三维微结构的模拟计算
纳米光栅的位相掩膜相干光光刻方法与工艺研究
光学投影式光刻系统中套刻对准方法研究
数字光刻物镜设计与毛化微加工调Q改进技术研究
光栅光刻机干涉条纹周期和波前的测量与控制研究
光学表面离子束加工的材料去除机理及表面演化机制研究
超纯水处理系统的研制
浸没流场压力仿真与检测研究
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