复合结构光栅大范围高精度光刻对准技术研究
| 致谢 | 第3-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-26页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 光刻技术发展历程 | 第11-14页 |
| 1.2.1 193nm浸没式光刻技术 | 第12页 |
| 1.2.2 极紫外光刻 | 第12-13页 |
| 1.2.3 表面等离子光刻 | 第13页 |
| 1.2.4 纳米压印光刻 | 第13-14页 |
| 1.3 光刻对准方法的进展综述 | 第14-24页 |
| 1.3.1 基于强度的探测对准方法 | 第14-19页 |
| 1.3.1.1 波带片强度探测对准 | 第14-15页 |
| 1.3.1.2 光栅衍射激光干涉对准 | 第15-16页 |
| 1.3.1.3 光栅衍射强度对准 | 第16-17页 |
| 1.3.1.4 ASML的光栅对准方法 | 第17-19页 |
| 1.3.2 基于图像的直接探测对准方法 | 第19-23页 |
| 1.3.3 国内研究现状 | 第23-24页 |
| 1.4 对准方法总结与分析 | 第24页 |
| 1.5 论文研究内容与结构安排 | 第24-26页 |
| 第2章 复合结构光栅莫尔条纹对准模型 | 第26-36页 |
| 2.1 引言 | 第26页 |
| 2.2 莫尔条纹基本原理 | 第26-28页 |
| 2.2.1 关于莫尔效应 | 第26页 |
| 2.2.2 莫尔条纹调制成像原理 | 第26-28页 |
| 2.3 莫尔条纹对准基本原理 | 第28-30页 |
| 2.4 二维Ronchi光栅对准模型 | 第30-32页 |
| 2.4.1 对准标记 | 第30页 |
| 2.4.2 二维Ronchi光栅对准模型 | 第30-32页 |
| 2.5 二维Ronchi光栅对准模型 | 第32-35页 |
| 2.5.1 对准标记 | 第32页 |
| 2.5.2 复合光栅对准模型 | 第32-35页 |
| 2.6 本章小结 | 第35-36页 |
| 第3章 二维Ronchi光栅莫尔条纹对准仿真分析 | 第36-41页 |
| 3.1 引言 | 第36页 |
| 3.2 二维Ronchi光栅对准仿真分析 | 第36-40页 |
| 3.3 本章小结 | 第40-41页 |
| 第4章 复合光栅莫尔条纹对准仿真分析 | 第41-45页 |
| 4.1 引言 | 第41页 |
| 4.2 复合光栅对准仿真分析 | 第41-44页 |
| 4.3 本章小结 | 第44-45页 |
| 第5章 实验研究与误差分析 | 第45-59页 |
| 5.1 引言 | 第45页 |
| 5.2 实验过程简介 | 第45-46页 |
| 5.3 实验装置与参数 | 第46-48页 |
| 5.4 对准实验 | 第48-58页 |
| 5.4.1 二维Ronchi光栅对准实验研究 | 第48-51页 |
| 5.4.2 二维光栅对准重复性实验研究 | 第51-52页 |
| 5.4.3 复合光栅对准实验研究 | 第52-56页 |
| 5.4.4 复合光栅对准重复性实验研究 | 第56-57页 |
| 5.4.5 实验结果误差分析 | 第57-58页 |
| 5.5 本章小结 | 第58-59页 |
| 第6章 总结和展望 | 第59-61页 |
| 6.1 总结 | 第59页 |
| 6.2 展望 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-67页 |
| 作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第67-68页 |
