| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第12-24页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第12-16页 |
| 1.2 离子束加工技术综述 | 第16-18页 |
| 1.3 离子束加工的中高频误差综述 | 第18-21页 |
| 1.4 本文主要研究内容 | 第21-24页 |
| 第2章 离子束加工的连续介质材料去除机理 | 第24-42页 |
| 2.1 载能离子与材料原子的相互作用 | 第24-28页 |
| 2.2 离子束作用过程中的原子行为 | 第28-40页 |
| 2.2.1 溅射族：原子的初次溅射行为 | 第29-32页 |
| 2.2.2 溅射族：遮蔽效应、表面反射和原子的二次溅射行为 | 第32-34页 |
| 2.2.3 溅射族：溅射原子的再沉积行为 | 第34-35页 |
| 2.2.4 扩散族：热激发的表面自扩散行为 | 第35-36页 |
| 2.2.5 扩散族：离子引发的有效扩散行为 | 第36页 |
| 2.2.6 扩散族：离子增强的表面粘滞流效应 | 第36-37页 |
| 2.2.7 扩散族：离子引发的弹道扩散行为 | 第37-38页 |
| 2.2.8 扩散族：Ehrlich-Schwoebel台阶沿效应 | 第38-39页 |
| 2.2.9 连续介质的表面法向去除速率的迭代模型 | 第39-40页 |
| 2.3 本章小结 | 第40-42页 |
| 第3章 表面粗糙度与形貌的演变机理 | 第42-70页 |
| 3.1 离子束去除过程的晶格动力学蒙特卡罗数学模型 | 第42-57页 |
| 3.1.1 基于事件的蒙特卡罗算法 | 第42-44页 |
| 3.1.2 晶格动力学的材料模型 | 第44-45页 |
| 3.1.3 跃迁事件 | 第45-51页 |
| 3.1.3.1 入射离子事件集 | 第45-47页 |
| 3.1.3.2 初次溅射事件集 | 第47-48页 |
| 3.1.3.3 二次溅射事件集 | 第48-49页 |
| 3.1.3.4 再沉积事件集 | 第49页 |
| 3.1.3.5 扩散事件集 | 第49-50页 |
| 3.1.3.6 总体KMC流 | 第50-51页 |
| 3.1.4 抽样算法 | 第51-54页 |
| 3.1.5 边界处理 | 第54-55页 |
| 3.1.6 模拟尺度与真实尺度 | 第55-57页 |
| 3.2 表面粗糙度与形貌演变的KMC分析与对比实验 | 第57-63页 |
| 3.2.1 离子束垂直入射情况 | 第60-62页 |
| 3.2.2 离子束倾斜入射情况 | 第62页 |
| 3.2.3 离子束掠入射情况 | 第62-63页 |
| 3.3 表面粗糙度演变中的原子行为分析 | 第63-68页 |
| 3.3.1 离子束垂直入射时的原子行为分析 | 第64-65页 |
| 3.3.2 离子束倾斜入射的原子行为分析 | 第65-66页 |
| 3.3.3 离子束掠入射的原子行为分析 | 第66-68页 |
| 3.4 本章小结 | 第68-70页 |
| 第4章 多组分材料的离子束去除机理 | 第70-90页 |
| 4.1 择优溅射 | 第70-71页 |
| 4.2 多组分材料的溅射产额 | 第71页 |
| 4.3 择优溅射的连续介质双场耦合模型 | 第71-74页 |
| 4.4 择优溅射的晶格动力学模型 | 第74-76页 |
| 4.5 择优溅射的双场耦合模型、动力学模型与实验研究 | 第76-87页 |
| 4.5.1 择优去除特性的KMC与实验研究 | 第76-81页 |
| 4.5.2 择优溅射因子的一般性规律 | 第81-83页 |
| 4.5.3 表面组分演变特性的双场耦合模型、KMC与实验研究 | 第83-87页 |
| 4.6 择优溅射对表面光学性质的影响 | 第87-88页 |
| 4.7 本章小结 | 第88-90页 |
| 第5章 离子束面形修正 | 第90-110页 |
| 5.1 离子束加工表面的CCOS展开 | 第90-91页 |
| 5.2 驻留时间的求解 | 第91-94页 |
| 5.3 边界处理 | 第94-96页 |
| 5.4 离子束去除函数 | 第96-103页 |
| 5.4.1 去除函数获取 | 第96-103页 |
| 5.4.1.1 去除速率函数的时间和能量特性 | 第98-100页 |
| 5.4.1.2 去除速率函数的陡度特性 | 第100-103页 |
| 5.5 离子束加工实验 | 第103-108页 |
| 5.5.1 170mm平面面形修正实验 | 第103-106页 |
| 5.5.2 130mm球面面形修正实验 | 第106-108页 |
| 5.6 本章小结 | 第108-110页 |
| 第6章 总结与展望 | 第110-112页 |
| 6.1 本文的贡献及创新 | 第110-111页 |
| 6.2 未来展望 | 第111-112页 |
| 参考文献 | 第112-126页 |
| 致谢 | 第126-127页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第127页 |
