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光刻、掩膜
应用于深亚波长光刻的光学邻近校正技术研究
提高极紫外光谱纯度的多层膜设计及制备
投影光刻物镜光学元件的离子束精修技术研究
纳米分辨率定位检测方法研究
超透镜（Superlens）光刻技术的研究
曝光光学系统性能对光刻性能影响的研究
基于表面等离子体激元的纳米结构产生和光刻技术
光栅刻划机摩擦驱动机构动力分析
毛细力光刻技术及其应用研究
基于胶体刻蚀技术构筑微纳结构及其应用
动态掩模微光刻系统开发及其在液晶光控取向中的应用研究
纯相位光学防伪掩模设计的相位恢复算法研究
冗余金属的光刻影响分析及优化
大功率GaN基LED用SiC衬底刻蚀工艺研究
基于水平集方法的等离子体刻蚀过程数值模拟
纳米压印镍模板的复制工艺研究
电化学湿法选择性刻蚀来剥离GaN外延
超声处理对SU-8胶与金属基底粘附性的影响
相变材料的干法刻蚀及相变存储器的制备工艺研究
部分相干照明下的光刻掩模图形优化方法研究
用于扫描刻蚀加工的特种悬臂梁探针关键技术研究
对半色调式PSM的应用中旁瓣效应的研究
半导体光刻中晶圆缺陷问题的研究
曲表面光刻胶涂覆技术研究
基于移动掩模技术的微透镜阵列的制作及其面形控制
激光干涉光刻纳米阵列的研究
紫外厚胶深光刻技术研究
无掩模光刻系统研究
动态分形数字掩模技术制作微透镜及其阵列的研究
数字光刻控制系统的研究与设计
数字光刻制作微光学器件的评价研究
投影光刻系统套刻对准技术的研究
基于模拟退火算法的接近式紫外光刻误差修正的研究
新型图形发生器的研制
N型单晶硅的水热刻蚀：形貌和光致发光
高密度等离子体刻蚀轮廓的数值研究
基于表面等离子体共振腔的可调谐纳米光刻技术研究
利用OPC工具预测及改善光刻工艺中的图形缺陷
光刻仿真中二维掩模近场的扩展傅立叶分析和严格耦合波分析
ICP刻蚀SiC机制及表面损伤的研究
通孔刻蚀技术的应用
耐高温紫外正型光刻胶和248nm深紫外光刻胶的研制
平面电机功率驱动器的研究
基于多刚体动力学模型的硅片台运动控制分析
冷等离子体刻蚀硅的纯化效应研究
八阶二元光学器件的光刻技术研究
浸没式ArF光刻CD均匀性研究
极紫外光刻机工件台精密机械及控制相关技术
极紫外光刻掩模热变形及其对光刻性能的影响
激光化学气相沉积光掩模版修复系统的研究
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