| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| CONTENTS | 第11-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-22页 |
| 1.1 课题背景 | 第14-15页 |
| 1.2 典型光刻系统分类 | 第15-17页 |
| 1.2.1 接触式/接近式光刻系统 | 第15-16页 |
| 1.2.2 光学投影式光刻系统 | 第16-17页 |
| 1.3 光学投影式光刻系统的性能参数 | 第17页 |
| 1.4 国内外研究现状 | 第17-19页 |
| 1.5 课题研究的目的与意义 | 第19页 |
| 1.6 论文主要研究内容 | 第19-22页 |
| 第二章 套刻理论及对准技术 | 第22-27页 |
| 2.1 引言 | 第22页 |
| 2.2 相关对准技术分类 | 第22-26页 |
| 2.2.1 双光束TTL对准技术 | 第23页 |
| 2.2.2 明场和暗场对准技术 | 第23页 |
| 2.2.3 同轴对准技术 | 第23-24页 |
| 2.2.4 离轴对准技术 | 第24页 |
| 2.2.5 同轴对准与离轴对准相结合的对准技术 | 第24页 |
| 2.2.6 Moire条纹对准技术 | 第24-25页 |
| 2.2.7 相位光栅衍射对准技术 | 第25页 |
| 2.2.8 视频图像匹配对准技术 | 第25-26页 |
| 2.3 本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 基于仿射变换单应矩阵的投影套刻对位系统及其对准方法 | 第27-46页 |
| 3.1 引言 | 第27页 |
| 3.2 系统硬件部分组成 | 第27-32页 |
| 3.2.1 光学照明系统 | 第29页 |
| 3.2.2 CMOS成像设备 | 第29-30页 |
| 3.2.3 光学显微成像系统 | 第30页 |
| 3.2.4 计算机系统 | 第30-32页 |
| 3.3 图像匹配对准方法分类及相关分析 | 第32-37页 |
| 3.3.1 图像匹配对准方法分类 | 第32-35页 |
| 3.3.2 图像匹配对准方法构成要素 | 第35-37页 |
| 3.4 提取轮廓线特征点 | 第37-39页 |
| 3.4.1 边缘轮廓线检测 | 第37-38页 |
| 3.4.2 轮廓线插值特征点 | 第38-39页 |
| 3.5 本文提出的新匹配算法 | 第39-44页 |
| 3.5.1 数值模拟结果 | 第42-43页 |
| 3.5.2 实验结果 | 第43-44页 |
| 3.5.3 误差分析 | 第44页 |
| 3.6 本文提出的对准方法 | 第44-45页 |
| 3.7 本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 套刻对准方法在投影式光刻系统中的实验分析 | 第46-58页 |
| 4.1 引言 | 第46页 |
| 4.2 套刻对位系统中光学显微物镜组的MTF分析 | 第46-49页 |
| 4.2.1 传统的成像系统MTF测量原理 | 第47页 |
| 4.2.2 本节提出的MTF测量原理 | 第47-49页 |
| 4.3 实验结果及分析 | 第49-56页 |
| 4.4 本章小结 | 第56-58页 |
| 第五章 平顶分布的紫外准分子激光生成方法 | 第58-64页 |
| 5.1 引言 | 第58页 |
| 5.2 部分相干光高斯-谢尔模型 | 第58-60页 |
| 5.3 数值模拟 | 第60-63页 |
| 5.4 本章小结 | 第63-64页 |
| 总结与展望 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第70-72页 |
| 致谢 | 第72页 |