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半导体器件制造工艺及设备
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光刻、掩膜
聚焦离子束的微结构溅射刻蚀轮廓计算方法
氯氩感应耦合等离子体脉冲调制射频偏压对原子层刻蚀影响的研究
表面等离子体共振腔超衍射极限成像和光刻技术研究
等离子刻蚀机下位机控制系统的设计与实现
基于多孔阳极氧化铝模板和紫外纳米压印的减反射膜制备技术
C4F6在130nm产品中接触孔/通孔干法刻蚀工艺中的应用
掩膜版雾状缺陷改善与光刻良率提升
多晶硅刻蚀中静电吸盘对产品的影响及其寿命的提高
45纳米掩膜版缺陷的可成像性研究
蚀刻反应腔部件对制程条件影响及控制研究
大高宽比微纳结构制备关键技术研究
浸没光刻机浸液温控实验装置设计与分析
Design and Simulation of EUVL Contamination Control Equipment
投影式振镜扫描激光三维刻蚀系统研究
激光干涉光刻制备微纳结构的表面积计算及其特性分析
基于变量分离理论的光刻成像快速计算方法研究
气体壁面射流冲击下的气液界面行为特性研究
浸没式光刻浸液动力参数调制系统建模分析与优化设计
纳米级集成电路计算光刻技术研究
HgCdTe光导器件干法刻蚀技术的研究
超纯水处理系统设计及其信息化方研究
浸没流场微振动力测试及动态补偿研究
浸没式光刻中浸没流场核心区域的优化研究
浸没式光刻机超纯水处理系统的研制
在改型的p型Si衬底上制备具有非极性择优取向生长的氧化锌薄膜
大功率器件用氮化钨各向异性刻蚀工艺设计与实现
纳米级电路分辨率增强技术及热点检测技术研究
石墨烯的CVD法制备及其H2刻蚀现象研究
超声提高SU-8光刻胶/金属基底界面结合强度研究
全自动激光刻印机的研究与应用
电化学刻蚀法制备锌基超疏水/超疏油表面
考虑光刻的金属填充对关键面积的影响分析
图形化SiC衬底及新型图形化蓝宝石衬底制备
基于CFD的等离子体刻蚀数值模拟与参数优化
宽带隙氧化锌和氧化镓的干法刻蚀研究
NIKON SCANNER同期精度控制方法的研究与实现
湿度对应用有机BARC光刻工艺产品良率的影响及其工艺改进策略
通过硬件参数调整解决功率MOS产品接触层特殊图形光刻胶倒胶缺陷的方案
0.18μm光刻制程中显影工艺的优化
浸没式光刻中流场的分析与仿真
光刻机双工件台轨迹规划算法研究
面向双工件台的VxWorks实时嵌入式系统设计与优化
公自转系统同步控制研究
纳米压印设备的优化改进
植入式柔性神经微电极纳米改性研究
浸没式光刻中的缺陷及解决方案
基于改进型正切空间距离测度的光刻热点聚类方法实现
193纳米光阻等离子体固化工艺研究
90nm SRAM光刻技术引入与改进
深紫外线曝光光罩结晶状缺陷的生长机理和预防
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