| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 第一章 绪论 | 第5-9页 |
| 第一节 论文研究背景和意义 | 第5-7页 |
| 第二节 论文研究主要工作 | 第7页 |
| 第三节 论文的组织结构 | 第7-9页 |
| 第二章 曝光过程和系统 | 第9-18页 |
| 第一节 光刻工艺原理及流程 | 第9-11页 |
| 第二节 曝光系统介绍 | 第11-12页 |
| 第三节 光源的选择 | 第12-14页 |
| 第四节 掩膜版 | 第14-16页 |
| 第五节 成像系统 | 第16-17页 |
| 第六节 光阻 | 第17-18页 |
| 第三章 分辨率提高技术(RET) | 第18-28页 |
| 第一节 衍射效应原理 | 第19-20页 |
| 第二节 几个重要公式和参数 | 第20-22页 |
| 第三节 波长对分辨率的影响 | 第22-23页 |
| 第四节 数值孔径对分辨率的影响 | 第23-24页 |
| 第五节 离轴照明技术 | 第24-25页 |
| 第六节 移相掩膜技术 | 第25-26页 |
| 第七节 光学临近效应校正(OPC)技术 | 第26-28页 |
| 第四章 几种OPC方法的比较 | 第28-35页 |
| 第一节 手动OPC(Manual OPC) | 第28-29页 |
| 第二节 基于规则的OPC(Rule-based OPC) | 第29-31页 |
| 第三节 辅助图形(Assistant Features) | 第31-33页 |
| 第四节 基于模型的OPC(Model-based OPC) | 第33-35页 |
| 第五章 OPC后的修补方法(Post-OPC Repair) | 第35-45页 |
| 第一节 OPC后修补的必要性 | 第35-37页 |
| 第二节 OPC后手动修补 | 第37-42页 |
| 第三节 基于规则的后OPC修补 | 第42-45页 |
| 第六章 全文总结 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-49页 |
| 致谢 | 第49-50页 |
