光栅光刻机干涉条纹周期和波前的测量与控制研究
| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 研究背景 | 第11页 |
| 1.2 光刻技术的发展现状 | 第11-16页 |
| 1.2.1 投影光刻 | 第11-12页 |
| 1.2.2 纳米压印光刻 | 第12-13页 |
| 1.2.3 电子束直写 | 第13-14页 |
| 1.2.4 激光直写 | 第14-16页 |
| 1.3 大尺寸衍射光栅制造技术发展现状 | 第16-22页 |
| 1.3.1 全息法 | 第17页 |
| 1.3.2 曝光拼接法 | 第17-19页 |
| 1.3.3 扫描干涉方法 | 第19-22页 |
| 1.4 本文研究内容和结构安排 | 第22-25页 |
| 1.4.1 本文研究内容 | 第22页 |
| 1.4.2 本文结构安排 | 第22-25页 |
| 2 系统整体构建方案 | 第25-33页 |
| 2.1 引言 | 第25-26页 |
| 2.2 总体结构 | 第26-31页 |
| 2.2.1 光源及曝光模块 | 第26-27页 |
| 2.2.2 H型工作平台模块 | 第27-31页 |
| 2.2.3 测量模块 | 第31页 |
| 2.3 刻写流程 | 第31-33页 |
| 3 干涉场干涉条纹周期测量 | 第33-45页 |
| 3.1 引言 | 第33-34页 |
| 3.2 周期计数法 | 第34-39页 |
| 3.2.1 周期计数法基本原理 | 第34-35页 |
| 3.2.2 周期计数法的误差理论分析 | 第35-39页 |
| 3.3 基于曲线拟合的周期计算方法 | 第39-41页 |
| 3.3.1 高斯曲线拟合 | 第39-40页 |
| 3.3.2 迭代余弦拟合 | 第40-41页 |
| 3.4 实验过程 | 第41-45页 |
| 4 双平移台位姿校正 | 第45-57页 |
| 4.1 引言 | 第45-46页 |
| 4.2 双平移台位姿校正前的结果 | 第46-48页 |
| 4.3 双平移台位姿校正方法 | 第48-52页 |
| 4.3.1 基本校正策略 | 第48-50页 |
| 4.3.2 二次多项式拟合 | 第50-52页 |
| 4.4 双平移台位姿校正后的结果 | 第52-57页 |
| 5 干涉场波前测量 | 第57-69页 |
| 5.1 引言 | 第57页 |
| 5.2 波前测量原理 | 第57-58页 |
| 5.3 相移干涉法简介 | 第58-61页 |
| 5.4 迭代最小二乘相移法 | 第61-64页 |
| 5.4.1 位相最小二乘算法 | 第62页 |
| 5.4.2 相移误差最小二乘算法 | 第62-63页 |
| 5.4.3 迭代过程 | 第63-64页 |
| 5.5 位相解包裹 | 第64-66页 |
| 5.5.1 一维解包裹方法 | 第64-65页 |
| 5.5.2 二维位相解包裹方法 | 第65-66页 |
| 5.6 实验过程 | 第66-69页 |
| 6 总结和展望 | 第69-71页 |
| 6.1 工作总结 | 第69-70页 |
| 6.2 展望 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-79页 |
| 作者简历 | 第79页 |
