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一般性问题
直流热阴极PCVD法金刚石膜的生长特性及氮掺杂研究
PCVD法制备N掺杂n型金刚石薄膜及特性研究
稀土掺杂铝酸锶长余辉发光材料制备与性能研究
基于工业应用的CVD金刚石薄膜制备工艺及性能研究
MOCVD的在线膜厚监测系统的设计与实现
ZnO薄膜材料及其相关声学器件研究
高性能AlGaN/GaN异质结材料的MOCVD生长与特性研究
外延层的工艺控制与实际应用
FTO透明导电薄膜表面处理及其复合膜的研究
辐射加热GaN-MOCVD反应室温度场仿真与设计
氧化铅薄膜的制备及其X射线光电导特性的研究
PECVD设备加热系统分析及优化
晶体生长辅助控制系统的研究
连续激光作用下半导体材料热效应的数值分析
MOCVD多通道高温测量系统的研制
氮化镓异质结电子辐照行为的研究
界面钝化对Gd2O3掺杂HfO2高k薄膜电性能影响的研究
生长条件对硅衬底GaN薄膜中C、H、O杂质浓度影响的研究
TiO2、MgO基底氧化锡外延薄膜的结构和光电性质研究
碳化硅和蓝宝石衬底二氧化锡外延薄膜的制备及特性研究
高功率TaN薄膜及集成电阻器的研究
晶体相场方法研究晶体外延生长界面结构与位错的迁移
化学气相沉积法制备石墨烯及其光电性能研究
NiO薄膜的制备及其光学特性的研究
2°GaAs衬底生长高质量GaP外延层的研究
GaN-MOCVD反应室的CFD数值模拟计算
蓝宝石衬底上Ga2O3薄膜的制备及性质研究
MPCVD装置中等离子体发射光谱研究
磁控溅射CrNx薄膜的制备及性能研究
基于Kohonen神经网络的晶圆光刻流程动态调度方法
Mn、Co掺杂SiC稀磁半导体薄膜的制备及物性研究
BDD/Ti复合膜电极的制备工艺研究
基于VO_X薄膜的电致阻变特性的研究
TiO2薄膜的制备及其MIT特性研究
纳米金刚石薄膜的制备与掺硼研究
化学气相沉积（CVD）生长高质量的石墨烯及其性能的研究
微晶硅薄膜的PECVD制备及性能研究
半导体材料低温无磨料超光滑表面抛光分析的研究
PECVD制备玻璃态SiO2薄膜技术研究
氟化钙晶体化学机械抛光工艺研究
原电池法制备硅纳米线的研究
GaN纳米结构的CVD法制备与表征
磁控溅射制备PbTe薄膜及Al惨杂性能的研究
β-Ga2O3薄膜及其复合薄膜的激光分子束外延法制备及性能研究
石墨烯的常压CVD法制备工艺参数研究及其在激光器调Q中的应用
新型半导体材料的制备及性能研究
若干信息功能氧化物薄膜材料的光电跃迁研究
工业硅生产中替代木炭的新型煤基还原剂的制备研究
先进逻辑（Logic）技术中CVD制程能力及其稳定性的改善研究
氧化锌稀磁半导体制备与性能的研究
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