首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--半导体技术论文--一般性问题论文--材料论文--一般性问题论文

2°GaAs衬底生长高质量GaP外延层的研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-6页
目录第6-7页
第一章 绪论第7-14页
   ·引言第7-8页
   ·AIGaInP LED的发展和现状第8-10页
   ·黄绿光AIGaInP LED的结构和发光原理第10-11页
   ·GaP的基本性质第11-12页
   ·本论文工作安排第12-14页
第二章 行星式MOCVD的系统第14-22页
   ·外延生长技术第14页
   ·行星式MOCVD的系统第14-17页
   ·行星式MOCVD的反应室第17-18页
   ·行星式MOCVD反应室的结构第18-19页
   ·MOCVD的金属有机化合物源第19-20页
   ·MOCVD的生长第20-21页
   ·本章小结第21-22页
第三章 MOCVD生长GaP的研究第22-27页
   ·GaP作为电流扩展层第22页
   ·衬底材料的选择第22-24页
   ·GaAs衬底上的GaP生长第24-26页
   ·本章小结第26-27页
第四章 实验及结论第27-47页
   ·温度对GaP生长的研究第27-33页
   ·低温低速GaP生长的研究第33-38页
   ·高温高速GaP生长的研究第38-43页
   ·2°GaAs衬底和15°GaAs衬底上的生长对比第43-46页
   ·本章小结第46-47页
总结第47-48页
致谢第48-49页
参考文献第49-50页

论文共50页,点击 下载论文
上一篇:反转有机发光二极管载流子注入及发光研究
下一篇:基于上转换材料的短波红外数字成像组件设计