摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
目录 | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第7-14页 |
·引言 | 第7-8页 |
·AIGaInP LED的发展和现状 | 第8-10页 |
·黄绿光AIGaInP LED的结构和发光原理 | 第10-11页 |
·GaP的基本性质 | 第11-12页 |
·本论文工作安排 | 第12-14页 |
第二章 行星式MOCVD的系统 | 第14-22页 |
·外延生长技术 | 第14页 |
·行星式MOCVD的系统 | 第14-17页 |
·行星式MOCVD的反应室 | 第17-18页 |
·行星式MOCVD反应室的结构 | 第18-19页 |
·MOCVD的金属有机化合物源 | 第19-20页 |
·MOCVD的生长 | 第20-21页 |
·本章小结 | 第21-22页 |
第三章 MOCVD生长GaP的研究 | 第22-27页 |
·GaP作为电流扩展层 | 第22页 |
·衬底材料的选择 | 第22-24页 |
·GaAs衬底上的GaP生长 | 第24-26页 |
·本章小结 | 第26-27页 |
第四章 实验及结论 | 第27-47页 |
·温度对GaP生长的研究 | 第27-33页 |
·低温低速GaP生长的研究 | 第33-38页 |
·高温高速GaP生长的研究 | 第38-43页 |
·2°GaAs衬底和15°GaAs衬底上的生长对比 | 第43-46页 |
·本章小结 | 第46-47页 |
总结 | 第47-48页 |
致谢 | 第48-49页 |
参考文献 | 第49-50页 |