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磁控溅射制备PbTe薄膜及Al惨杂性能的研究

摘要第1-7页
Abstract第7-9页
第一章 绪论第9-21页
 第一节 PbTe 材料的基本性质第9-12页
 第二节 PbTe 材料的应用第12-15页
 第三节 PbTe 薄膜的制备方法及研究现状第15-19页
 第四节 论文选题依据及意义第19-21页
第二章 实验设备和测试方法第21-29页
 第一节 实验设备第21-23页
 第二节 实验中所需要的主要材料和试剂第23-24页
 第三节 测试手段及工作原理第24-29页
第三章 磁控溅射工艺参数对 PbTe 薄膜性能的影响第29-39页
 第一节 溅射功率对 PbTe 薄膜性能的影响第29-32页
 第二节 薄膜厚度对 PbTe 薄膜性能的影响第32-34页
 第三节 衬底温度对 PbTe 薄膜性能的影响第34-37页
 第四节 本章小结第37-39页
第四章 Al 掺杂 PbTe 薄膜的制备及退火第39-49页
 第一节 Al/ PbTe 薄膜的制备及退火第39-40页
 第二节 退火时间对磁控溅射 Al/PbTe 薄膜的影响第40-43页
 第三节 退火温度对磁控溅射 Al/PbTe 薄膜的影响第43-47页
 第四节 本章小结第47-49页
第五章 全文总结第49-51页
 第一节 本论文的主要研究内容及成果第49-50页
 第二节 今后工作的建议第50-51页
参考文献第51-57页
论文作者在学期间发表的学术论文目录第57-59页
致谢第59页

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