| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 引言 | 第5-19页 |
| 第一节 CVD工艺概述 | 第6-8页 |
| 第二节 CVD工艺的分类 | 第8-16页 |
| 第三节 CVD工艺薄膜主要性能参数及分析测试手段 | 第16-19页 |
| 第二章 CVD工艺在IC制造后段工艺中的应用 | 第19-21页 |
| 第一节 工艺简介 | 第19页 |
| 第二节 后段工艺对CVD工艺的要求 | 第19-20页 |
| 第三节 主要绝缘介质薄膜制备的选择 | 第20-21页 |
| 第三章 实验设计及改善方案 | 第21-49页 |
| 第一节 0.18μ m logic工艺中存在的四个问题 | 第21-25页 |
| 第二节 本课题的主要研究工作 | 第25页 |
| 第三节 实验设计方案 | 第25-49页 |
| 第四章 工作成果总结与推广 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |