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TiO2、MgO基底氧化锡外延薄膜的结构和光电性质研究

目录第1-7页
CONTENTS第7-10页
摘要第10-13页
ABSTRACT第13-16页
符号表第16-18页
第一章 绪论第18-38页
 §1.1 概述第18-19页
 §1.2 SnO_2 材料的性质及其应用第19-24页
     ·结构性质第19-20页
     ·光学性质第20-22页
     ·电学性质第22-23页
     ·SnO_2材料的应用第23-24页
 §1.3 SnO_2薄膜的制备第24-26页
 §1.4 SnO_2薄膜的研究现状第26-30页
 §1.5 选题依据与前景第30-33页
 本章参考文献第33-38页
第二章 实验设备和测试分析方法简介第38-56页
 §2.1 金属有机化学气相沉积法第38-43页
     ·金属有机化学气相沉积的基本原理及特点第38-40页
     ·MOCVD系统介绍第40-43页
 §2.2 本实验所用的MOCVD系统简介第43-48页
     ·MOCVD设备简介第43-47页
     ·实验工艺流程简介第47-48页
 §2.3 本论文涉及的测试分析方法介绍第48-54页
     ·样品结构形貌分析第48-50页
     ·样品成分分析第50-52页
     ·样品光学性质测量第52-53页
     ·样品电学性质测量第53-54页
 本章参考文献第54-56页
第三章 TiO_2(001)衬底上SnO_2薄膜的制备与性质研究第56-66页
 §3.1 SnO_2薄膜的制备第56-57页
     ·衬底清洗第56页
     ·薄膜的制备第56-57页
 §3.2 SnO_2 薄膜的基本结构及成分分析第57-61页
 §3.3 TiO_2(001)衬底上SnO_2薄膜的外延机理分析第61-63页
 §3.4 SnO_2薄膜的光学性质第63-65页
 本章参考文献第65-66页
第四章 MgO(100)衬底上SnO_2薄膜的制备与性质研究第66-80页
 §4.1 薄膜的制备第66-67页
 §4.2 SnO_2 薄膜的结构与成分分析第67-70页
 §4.3 SnO_2薄膜的外延机理分析第70-74页
 §4.4 SnO_2薄膜的形貌分析第74-76页
 §4.5 SnO_2薄膜的电学性质研究第76-77页
 §4.6 SnO_2薄膜的光学性质研究第77-79页
 本章参考文献第79-80页
第五章 TiO_2衬底上SnO_2:Sb薄膜的制备与性质研究第80-92页
 §5.1 薄膜的制备第80-81页
 §5.2 SnO_2 :Sb薄膜的结构分析第81-83页
 §5.3 SnO_2:Sb薄膜的表面形貌及厚度分析第83-84页
 §5.4 SnO_2:Sb薄膜的成分分析第84-87页
 §5.5 SnO_2:Sb薄膜的光学性质第87-88页
 §5.6 SnO_2:Sb薄膜的电学性质第88-91页
 本章参考文献第91-92页
第六章 MgO衬底上SnO_2:Sb薄膜的制备与性质研究第92-102页
 §6.1 薄膜的制备第92-93页
 §6.2 薄膜的结构分析第93-95页
 §6.3 薄膜的形貌分析第95-96页
 §6.4 薄膜的光学性质第96-98页
 §6.5 薄膜的电学性质第98-101页
 本章参考文献第101-102页
第七章 结论第102-105页
 §7.1 SnO_2薄膜的制备与性质研究第102-103页
 §7.2 SnO_2 :Sb薄膜的制备与性质研究第103-105页
博士期间发表学术论文目录第105-107页
致谢第107-108页
Paper 1第108-115页
Paper 2第115-122页
附件第122页

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