当前位置：
首页
--
工业技术
--
无线电电子学、电信技术
--
半导体技术
--
一般性问题
--
材料
--
一般性问题
SiC多层薄膜的制备及其性能研究
基于二氧化锡的P-N结制备及其性能研究
掺铝氧化锌（AZO）薄膜的制备及光电性能研究
AZO透明导电薄膜的制备及其光学与电学性能研究
电化学沉积制备ZnO、Cu2O薄膜的结构表征及其光电性能研究
磁控共溅射制备无氢碳化锗薄膜的结构和性能研究
氧分压变化对二氧化钒薄膜相变特性的影响
RPCVD生长SiGe材料的CFD模拟研究
3C-SiC压阻式压力传感器研究
Si衬底GaN外延层的MOCVD生长研究
AlxZn1-xO薄膜光电性能的研究与应用
几种有机半导体薄膜及单晶器件的探索与研究
铁氧体基TaN薄膜及微波集成负载，隔离器研制
硅纳米线阵列磁控溅射镍膜上化学气相沉积（CVD）石墨烯的研究
硅基应变材料生长动力学与缺陷控制研究
Ge纳米薄膜电输运性质与Si基纳米材料热电性能研究
GaN薄膜中马赛克结构和发光性能的研究
基于石墨烯的透明导电薄膜及LED的制备与性能研究
单晶硅精密研抛的分子动力学仿真及试验研究
铝诱导CdZnTe多晶薄膜的制备及物理特性研究
Si的渗透和掺杂对AZO薄膜结构和特性的影响
铁电薄膜光阴极制备及其光电化学特性研究
SrTiO3薄膜光电极的制备及其光电化学性能的研究
基于SAW器件“ZnO/（100）AlN/Diamond”多层膜的制备研究
基于TiO2柔性阻变存储器性能研究
Fe基In2O3和SiC稀磁半导体薄膜的局域结构与磁、输运性能
BDD/Ti多孔复合膜制备关键技术研究
基于声表面波器件的ZnO/Al/AlN/Si基片制备研究
CIGS薄膜太阳电池窗口层的制备和特性研究
Mn/Fe掺杂SnO2半导体薄膜材料与光场的耦合规律研究
铜铁矿薄膜材料的制备和性能研究
典型磁性金属及过渡金属氧化物薄膜结构、电磁性能的应变调控
GaN的THz波段介电性质和铁氮化合物的制备与性能研究
Ag掺杂ZnO薄膜及纳米结构的Raman特性
Na掺杂ZnO性能研究
锂氮共掺杂ρ型氧化锌基薄膜制备及其发光器件研究
P-MBE法生长ZnO单晶薄膜及Na掺杂研究
p型ZnMgO薄膜器件相关性能研究和Ga掺杂ZnO薄膜表面处理
ZnO基材料的择优取向生长及异质结界面能带结构研究
AZO透明导电薄膜及其用于GaN基LED透明电极的研究
n型ZnO欧姆接触及肖特基接触电极的研究
利用纳米结构模板生长高质量硅锗材料
CuAlO2靶材与薄膜的制备及性能研究
脉冲激光沉积法制备的ZnO薄膜的电抽运随机激射
ZnO基薄膜晶体管与非晶透明导电薄膜的研究
非晶硅热成像敏感薄膜制备技术研究
磷掺杂p型ZnO薄膜的制备及相关问题研究
NiO材料制备及其光电器件研究
纳米结构ZnO的制备及性能研究
Ⅱ-Ⅵ族半导体/二氧化锡纳米结构复合薄膜的制备及其应用性能研究
上一页
[3]
[4]
[5]
[6]
[7]
下一页
