| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-15页 |
| ·研究背景 | 第8-10页 |
| ·刀具涂层技术概述 | 第8页 |
| ·刀具涂层技术的应用 | 第8-10页 |
| ·磁控溅射技术 | 第10-11页 |
| ·磁控溅射技术的发展 | 第10页 |
| ·原理及其特点 | 第10-11页 |
| ·磁控溅射原理 | 第11页 |
| ·反应磁控溅射及其特点 | 第11页 |
| ·CrNx薄膜的研究进展及性能介绍 | 第11-12页 |
| ·研究的内容 | 第12-13页 |
| ·研究的目的及意义 | 第13页 |
| ·技术路线及章节安排 | 第13-15页 |
| 第二章 试样的制备及表征方法 | 第15-20页 |
| ·样品制备 | 第15-18页 |
| ·镀膜设备介绍 | 第15-16页 |
| ·预处理过程 | 第16-18页 |
| ·测试方法简介 | 第18-20页 |
| 第三章 CrNx镀膜层表面形貌和微观组织的分析与研究 | 第20-34页 |
| ·工艺参数对CrNx镀膜层XRD的影响 | 第20-23页 |
| ·溅射功率与XRD | 第20页 |
| ·工作气压与XRD | 第20-21页 |
| ·溅射时间与XRD | 第21页 |
| ·沉积温度时间与XRD | 第21-22页 |
| ·Ar／N2流量比与XRD | 第22-23页 |
| ·工艺参数对CrNx镀膜层表面形貌的影响 | 第23-27页 |
| ·溅射功率与表面形貌 | 第23-24页 |
| ·工作气压与表面形貌 | 第24页 |
| ·溅射时间与表面形貌 | 第24-25页 |
| ·沉积温度与表面形貌 | 第25-26页 |
| ·Ar／N2流量比与表面形貌 | 第26-27页 |
| ·工艺参数对CrNx镀膜层能谱的影响 | 第27-29页 |
| ·溅射功率与能谱 | 第27页 |
| ·工作气压与能谱 | 第27-28页 |
| ·溅射时间与能谱 | 第28页 |
| ·沉积温度与能谱 | 第28页 |
| ·Ar／N2流量比与能谱 | 第28-29页 |
| ·工艺参数对CrNx镀膜层外观及硬度的影响 | 第29-32页 |
| ·溅射功率与外观硬度 | 第29页 |
| ·工作气压与外观硬度 | 第29-30页 |
| ·溅射时间与外观硬度 | 第30-31页 |
| ·沉积温度与外观硬度 | 第31页 |
| ·Ar／N2流量比与外观硬度 | 第31-32页 |
| ·分析 | 第32-33页 |
| ·小结 | 第33-34页 |
| 第四章 镀膜层磨损和腐蚀性能研究 | 第34-49页 |
| ·对比磨损试验结果与分析 | 第34-38页 |
| ·对比磨损试验结果与分析 | 第34-37页 |
| ·磨损形貌及分析 | 第37-38页 |
| ·腐蚀实验结果及分析 | 第38-47页 |
| ·镀膜层的自腐蚀电位 | 第38-40页 |
| ·动电位极化曲线 | 第40-45页 |
| ·腐蚀形貌观察 | 第45-47页 |
| ·小结 | 第47-49页 |
| 第五章 结论与展望 | 第49-51页 |
| ·结论 | 第49页 |
| ·展望 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 攻读学位期间主要的研究成果 | 第57页 |