| 中文摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·石墨烯（graphene）的基本性质 | 第10-11页 |
| ·化学气相沉积（CVD）生长石墨烯的研究进展 | 第11-14页 |
| ·在 Ni 金属衬底表面 CVD 生长石墨烯的研究进展 | 第11-13页 |
| ·在 Cu 金属衬底表面 CVD 生长石墨烯的研究进展 | 第13-14页 |
| ·在氧化物（Oxide）衬底表面 CVD 生长石墨烯的研究进展 | 第14-15页 |
| ·本论文研究的内容 | 第15-16页 |
| 参考文献 | 第16-18页 |
| 第二章 石墨烯薄膜的检测及性能测试方法 | 第18-26页 |
| ·拉曼光谱在石墨烯中的应用 | 第18-20页 |
| ·扫描电子显微镜测量 | 第20页 |
| ·光学显微镜 | 第20-21页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第21-22页 |
| ·方块电阻分析 四探针测试法 | 第22-24页 |
| ·光学性能的测量 | 第24-25页 |
| 参考文献 | 第25-26页 |
| 第三章 在镍（Ni）衬底表面 CVD 生长石墨烯 | 第26-39页 |
| ·镍（Ni）金属衬底表面的等离子体处理 | 第26-27页 |
| ·石墨烯在镍（Ni）金属表面的生长及转移 | 第27-36页 |
| ·生长石墨烯的化学气相沉积（CVD）系统 | 第27-28页 |
| ·石墨烯在金属镍（Ni）上的生长机制 | 第28页 |
| ·从镍（Ni）表面转移石墨烯的过程 | 第28-30页 |
| ·石墨烯的生长过程 | 第30-36页 |
| 参考文献 | 第36-39页 |
| 第四章 在铜（Cu）衬底表面 CVD 生长石墨烯 | 第39-48页 |
| ·铜（Cu）金属衬底表面的等离子处理和酸化处理 | 第39-40页 |
| ·石墨烯在铜（Cu）金属表面的生长及转移 | 第40-46页 |
| ·石墨烯在铜金属表面的生长机制 | 第40页 |
| ·生长石墨烯的热壁化学气相沉积系统（Hot-wall CVD） | 第40-41页 |
| ·从铜（Cu）表面转移石墨烯的过程 | 第41-42页 |
| ·石墨烯在铜表面的生长 | 第42-44页 |
| ·铜上石墨烯生长的结果 | 第44-46页 |
| 参考文献 | 第46-48页 |
| 第五章 在氧化物（Oxide）衬底表面 CVD 生长石墨烯及生长机理探索 | 第48-51页 |
| ·石墨烯在氧化物衬底上直接生长的意义 | 第48页 |
| ·石墨烯在石英衬底上的生长过程 | 第48-49页 |
| ·结果与讨论 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-51页 |
| 第六章 总结和展望 | 第51-53页 |
| 硕士期间主要研究成果 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54页 |
