PECVD制备玻璃态SiO2薄膜技术研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-10页 |
| ·光学薄膜的发展 | 第7-8页 |
| ·研究SiO_2薄膜的意义 | 第8-9页 |
| ·本文的主要研究工作 | 第9-10页 |
| 第二章 化学气相沉积法 | 第10-15页 |
| ·化学气相沉积的原理 | 第10-12页 |
| ·化学气相沉积的特点 | 第12-13页 |
| ·几种常见的化学气相沉积 | 第13-15页 |
| 第三章 二氧化硅薄膜的制备方法 | 第15-20页 |
| ·热氧化法 | 第15-16页 |
| ·化学气相沉积法 | 第16-18页 |
| ·火焰水解法(FHD) | 第18页 |
| ·溶胶-凝胶法(Sol-gel) | 第18-20页 |
| 第四章 PECVD沉积和SiO_2薄膜工艺制备 | 第20-34页 |
| ·等离子体的基本性质 | 第20-26页 |
| ·实验装置及原理简介 | 第26-31页 |
| ·实验原料及样品 | 第31-32页 |
| ·工艺条件 | 第32页 |
| ·实验步骤 | 第32-34页 |
| 第五章 实验结果分析 | 第34-45页 |
| ·SiO_2薄膜的X射线分析 | 第34-35页 |
| ·SiO_2薄膜的SEM分析 | 第35-36页 |
| ·沉积速率与沉积工艺的关系 | 第36-40页 |
| ·应力与沉积工艺的关系 | 第40-42页 |
| ·折射率与沉积工艺的关系 | 第42-45页 |
| 结论 | 第45-46页 |
| 致谢 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-50页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第50页 |
