BDD/Ti复合膜电极的制备工艺研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-15页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·电极电化学技术的介绍 | 第11-12页 |
| ·选题的意义及研究内容 | 第12-15页 |
| 第二章 金属钛和金刚石的结构与性质 | 第15-22页 |
| ·钛的结构和性质 | 第15-17页 |
| ·钛的物理性质 | 第15-16页 |
| ·钛的化学性质 | 第16-17页 |
| ·钛的机械性能 | 第17页 |
| ·钛的耐腐蚀性能 | 第17页 |
| ·金刚石的结构和性质 | 第17-22页 |
| ·金刚石的结构 | 第17-18页 |
| ·金刚石的性质及其应用 | 第18-19页 |
| ·掺硼金刚石薄膜电极的性质 | 第19-22页 |
| 第三章 金刚石薄膜的制备方法及其表征 | 第22-26页 |
| ·金刚石薄膜的制备方法 | 第22-23页 |
| ·热丝化学气相沉积法（HFCVD） | 第22-23页 |
| ·微波等离子体化学气相沉积法（MPCVD） | 第23页 |
| ·金刚石薄膜的常用表征方法 | 第23-26页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第23-24页 |
| ·X 射线衍射仪（XRD） | 第24-25页 |
| ·激光拉曼光谱（Raman Spectra） | 第25-26页 |
| 第四章 BDD/Ti 复合膜电极的制备及测试 | 第26-46页 |
| ·多孔钛基底的性质 | 第26页 |
| ·实验设备及其工艺流程介绍 | 第26-30页 |
| ·HFCVD 实验装置介绍 | 第26-29页 |
| ·HFCVD 工艺流程 | 第29-30页 |
| ·BDD/Ti 复合膜电极的制备 | 第30-34页 |
| ·多孔钛基底的制备和预处理 | 第30-32页 |
| ·薄膜沉积实验操作过程 | 第32-34页 |
| ·BDD/Ti 复合膜电极的外貌 | 第34页 |
| ·实验结果与讨论 | 第34-44页 |
| ·基底预处理的影响 | 第35页 |
| ·基底温度的影响 | 第35-36页 |
| ·碳源浓度的影响 | 第36-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第五章 总结与展望 | 第46-47页 |
| ·工作总结 | 第46页 |
| ·工作展望 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-51页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
