摘要 | 第1-7页 |
ABSTRACT | 第7-11页 |
第一章 绪论 | 第11-25页 |
·课题背景和研究意义 | 第11-13页 |
·半导体晶圆制造流程 | 第13-18页 |
·半导体晶圆制造工艺 | 第13-15页 |
·光刻流程介绍 | 第15-16页 |
·光刻流程调度的重要性 | 第16-18页 |
·国内外研究现状分析 | 第18-24页 |
·基于简单规则的动态调度 | 第18-20页 |
·基于数学规划方法的动态调度 | 第20-21页 |
·基于仿真的动态调度 | 第21-22页 |
·基于人工智能的动态调度 | 第22-23页 |
·研究现状总结 | 第23-24页 |
·章节安排 | 第24-25页 |
第二章 神经网络 | 第25-34页 |
·神经网络概述 | 第25-27页 |
·神经网络比较 | 第27-31页 |
·前馈网络 | 第27-29页 |
·反馈网络 | 第29-30页 |
·自组织竞争神经网络 | 第30-31页 |
·Kohonen 神经网络 | 第31-33页 |
本章小结 | 第33-34页 |
第三章 基于Kohonen 神经网络的动态调度方法 | 第34-46页 |
·动态调度系统概述 | 第34-39页 |
·动态调度的对象 | 第34-35页 |
·动态调度的策略 | 第35-36页 |
·动态调度的依据 | 第36-37页 |
·动态调度的目标 | 第37-39页 |
·系统模块描述 | 第39-45页 |
·仿真样本生成模块 | 第39-41页 |
·学习模块 | 第41-44页 |
·数据库模块 | 第44-45页 |
·预测模块 | 第45页 |
·控制模块 | 第45页 |
本章小结 | 第45-46页 |
第四章 开环投料规则 | 第46-68页 |
·仿真基本数据设计 | 第46-49页 |
·设备数据 | 第46-48页 |
·产品数据 | 第48-49页 |
·光刻区调度规则设计 | 第49-52页 |
·设备上料规则 | 第49-50页 |
·检查频率 | 第50-51页 |
·检查规则 | 第51-52页 |
·仿真指标设计 | 第52-56页 |
·绩效指标值 | 第52页 |
·状态指标值 | 第52-54页 |
·性能评价指标值 | 第54-56页 |
·样本收集及学习 | 第56-61页 |
·仿真样本收集 | 第56-58页 |
·学习 | 第58-61页 |
·动态调度过程模拟 | 第61页 |
·调度结果比较 | 第61-67页 |
本章小结 | 第67-68页 |
第五章 闭环投料规则 | 第68-80页 |
·计算WIP 数量 | 第68-74页 |
·模型描述 | 第68-70页 |
·求解策略 | 第70页 |
·启发式算法 | 第70-74页 |
·仿真 | 第74-79页 |
·学习 | 第74-75页 |
·调度结果数据比较 | 第75-79页 |
本章小结 | 第79-80页 |
第六章 结论与展望 | 第80-82页 |
·结论 | 第80页 |
·展望 | 第80-82页 |
参考文献 | 第82-88页 |
致谢 | 第88-89页 |
攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第89-90页 |
上海交通大学学位论文答辩决议书 | 第90页 |