| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-27页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·太阳能电池的概述和制备方法 | 第9-14页 |
| ·太阳能电池 | 第9-10页 |
| ·太阳能电池的研究与发展现状 | 第10-12页 |
| ·太阳能电池的基本原理 | 第12-14页 |
| ·硅基异质结太阳能电池的发展现状 | 第14页 |
| ·硅基异质结太阳能薄膜电池结构 | 第14-23页 |
| ·背表面电场(BSF) | 第14-18页 |
| ·非晶硅/微晶硅薄膜 | 第18-23页 |
| ·研究目标 | 第23页 |
| ·研究内容 | 第23-24页 |
| 参考文献 | 第24-27页 |
| 第二章 电池制备技术及测试方法 | 第27-37页 |
| ·PECVD 沉积薄膜技术 | 第27-29页 |
| ·测试分析方法 | 第29-36页 |
| ·方块电阻-四探针法 | 第29-31页 |
| ·X 射线衍射仪(XRD) | 第31-32页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第32-34页 |
| ·激光拉曼光谱仪 | 第34-35页 |
| ·NKD-8000 | 第35-36页 |
| 参考文献 | 第36-37页 |
| 第三章 晶体硅的热扩散掺杂和硅薄膜的 PECVD 制备 | 第37-65页 |
| ·晶体硅的热扩散掺杂研究 | 第37-42页 |
| ·n 型掺杂 | 第37-38页 |
| ·p 型掺杂 | 第38页 |
| ·分析测试方法 | 第38页 |
| ·掺杂测试结果与分析 | 第38-42页 |
| ·小结 | 第42页 |
| ·PECVD 沉积非晶/微晶硅薄膜的研究 | 第42-53页 |
| ·非晶硅薄膜的沉积 | 第43页 |
| ·微晶硅薄膜的沉积 | 第43-44页 |
| ·分析测试方法 | 第44页 |
| ·非晶硅薄膜的性质及分析 | 第44-48页 |
| ·微晶硅的性质和分析 | 第48-51页 |
| ·微晶硅与非晶硅结晶性的区别 | 第51-53页 |
| ·小结 | 第53页 |
| ·不同衬底对硅薄膜生长的影响 | 第53-63页 |
| ·不同衬底上硅薄膜的沉积 | 第53-54页 |
| ·分析测试方法 | 第54页 |
| ·三种不同衬底的 XRD 衍射图 | 第54-55页 |
| ·衬底和温度对结晶性的影响 | 第55-61页 |
| ·温度和衬底对薄膜生长速率的影响 | 第61-62页 |
| ·小结 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-65页 |
| 第四章 总结与展望 | 第65-67页 |
| 研究生阶段所取得的成果 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |