PECVD设备加热系统分析及优化
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-18页 |
| ·课题来源及发展情况 | 第9-12页 |
| ·太阳电池背景资料 | 第9-10页 |
| ·国内外光伏产业发展现状 | 第10-12页 |
| ·太阳电池的产业发展方向 | 第12页 |
| ·太阳电池减反膜镀膜方案选择 | 第12-16页 |
| ·温度场分析的意义 | 第16页 |
| ·研究内容 | 第16-18页 |
| 第2章 PECVD设备原理及实验 | 第18-30页 |
| ·PECVD方法制备氮化硅技术 | 第18-23页 |
| ·PECVD原理介绍 | 第18页 |
| ·PECVD等离子场放电原理 | 第18-19页 |
| ·PECVD法制备氮化硅薄膜沉积动力学过程 | 第19-20页 |
| ·PECVD工艺参数研究 | 第20-22页 |
| ·PECVD工艺过程 | 第22-23页 |
| ·PECVD实验设备介绍 | 第23-26页 |
| ·测试温度场实验方法及结果 | 第26-30页 |
| 第3章 PECVD设备加热过程的有限元模拟 | 第30-52页 |
| ·温度场问题的有限元方法介绍 | 第30-32页 |
| ·有限元温度场模拟前胃处理 | 第32-35页 |
| ·热分析数学模型 | 第32-33页 |
| ·有限元模型简化 | 第33页 |
| ·有限元计算的基本假设 | 第33-34页 |
| ·初始条件及载荷处理 | 第34-35页 |
| ·PECVD设备温度场的ANSYS分析 | 第35-42页 |
| ·前处理 | 第36-40页 |
| ·辐射矩阵求懈 | 第40-41页 |
| ·加载求解 | 第41-42页 |
| ·数值模拟结果及分析 | 第42-52页 |
| 第4章 PECVD设备反应室加热系统优化设计 | 第52-60页 |
| ·优化设计基本概念 | 第52-53页 |
| ·优化模型的建立 | 第53-54页 |
| ·优化过程 | 第54-56页 |
| ·优化实例 | 第56-60页 |
| 第5章 结论与展望 | 第60-63页 |
| ·结论 | 第60页 |
| ·未来工作的展望 | 第60-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 致谢 | 第67页 |