基于水平集方法的等离子体刻蚀过程数值模拟
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-18页 |
| ·研究背景以及意义 | 第9-10页 |
| ·刻蚀的分类和原理 | 第10-12页 |
| ·湿法刻蚀 | 第10-11页 |
| ·等离子体刻蚀 | 第11-12页 |
| ·等离子体刻蚀设备 | 第12-13页 |
| ·等离子体刻蚀工艺 | 第13-14页 |
| ·等离子体刻蚀结果评价 | 第14-16页 |
| ·等离子体刻蚀数值模拟研究进展 | 第16-17页 |
| ·本文研究内容的安排 | 第17-18页 |
| 2 等离子体刻蚀过程模拟的数值模型 | 第18-27页 |
| ·等离子体刻蚀数值模拟流程 | 第18-19页 |
| ·物理模型 | 第19-20页 |
| ·流体动力学模型 | 第19-20页 |
| ·粒子模型 | 第20页 |
| ·混合模型 | 第20页 |
| ·刻蚀速率模型 | 第20-21页 |
| ·线性刻蚀速率模型 | 第20-21页 |
| ·饱和吸附模型 | 第21页 |
| ·剖面演化模型 | 第21-24页 |
| ·元胞模型 | 第22页 |
| ·线算法 | 第22-23页 |
| ·射线类算法 | 第23-24页 |
| ·水平集算法 | 第24页 |
| ·其他刻蚀过程描述算法 | 第24-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 3 基于水平集方法的刻蚀剖面演化模拟 | 第27-42页 |
| ·二维水平集方法及其数值实现 | 第27-29页 |
| ·硅刻蚀的二维水平集算例 | 第29-34页 |
| ·数值模型描述 | 第29-30页 |
| ·数值算例与讨论 | 第30-34页 |
| ·硅刻蚀水平集模型的三维化 | 第34-35页 |
| ·硅刻蚀三维水平集数值算例 | 第35-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 4 基于元胞水平集联合算法的刻蚀剖面演化模拟 | 第42-57页 |
| ·元胞水平集算法实现过程 | 第42-43页 |
| ·电场求解 | 第43-45页 |
| ·离子轨迹追踪 | 第45-47页 |
| ·胞信息的更新与界面模拟 | 第47-48页 |
| ·网格映射的处理 | 第48-51页 |
| ·数值算例 | 第51-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 5 结论与展望 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
