| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-12页 |
| ·研究背景 | 第8-9页 |
| ·表面等离子体激元在光刻技术中应用 | 第9-10页 |
| ·本论文的主要内容 | 第10-12页 |
| 第二章 表面等离子体激元的基本概念和基本特性 | 第12-20页 |
| ·表面等离子体激元的基本概念和特性 | 第12-16页 |
| ·表面等离子体激元激励方式 | 第16-19页 |
| ·棱镜耦合激发 | 第17页 |
| ·衍射光栅结构激发 | 第17-18页 |
| ·近场激发 | 第18-19页 |
| ·本章小结 | 第19-20页 |
| 第三章 多层结构表面等离子体激元色散关系 | 第20-35页 |
| ·三层结构表面等离子体色散关系 | 第20-22页 |
| ·四层结构表面等离子体色散关系 | 第22-28页 |
| ·五层结构表面等离子体色散关系 | 第28-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第四章 表面等离子体共振腔光刻技术 | 第35-48页 |
| ·表面等离子体共振腔光刻技术 | 第35-36页 |
| ·表面等离子体共振腔的特性分析 | 第36-38页 |
| ·表面等离子体共振腔光刻技术结构参数对条纹周期的影响 | 第38-45页 |
| ·光刻胶厚度对条纹周期的影响 | 第38-41页 |
| ·金属光栅厚度对条纹周期的影响 | 第41-43页 |
| ·入射光波长对条纹周期的影响 | 第43-44页 |
| ·金属光栅周期对条纹周期的影响 | 第44-45页 |
| ·表面等离子体共振腔的液浸光刻技术 | 第45-46页 |
| ·表面等离子体共振腔光刻法的可行性分析 | 第46-47页 |
| ·小结 | 第47-48页 |
| 第五章 总结和展望 | 第48-50页 |
| ·总结 | 第48页 |
| ·展望 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-53页 |
| 攻读硕士学位期间公开发表的论文 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |