| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| ·研究背景 | 第9页 |
| ·研究现状 | 第9-15页 |
| ·本论文的主要内容 | 第15-17页 |
| 第二章 表面等离子体激元的基本原理和研究方法 | 第17-29页 |
| ·引言 | 第17页 |
| ·Drude 模型 | 第17-18页 |
| ·表面等离子体激元的色散关系 | 第18-21页 |
| ·表面等离子体激元的激发方式 | 第21-23页 |
| ·棱镜耦合激发 | 第21-22页 |
| ·光栅耦合激发 | 第22-23页 |
| ·近场耦合激发 | 第23页 |
| ·超透镜原理 | 第23-27页 |
| ·时域有限差分(FDTD)数值计算方法 | 第27-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 双光束表面等离子体共振腔超衍射极限的纳米光刻技术 | 第29-41页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·双光束表面等离子体共振腔的纳米光刻技术原理 | 第29-31页 |
| ·双光束表面等离子体共振腔的特性分析 | 第31-32页 |
| ·双光束表面等离子体共振腔纳米光刻结构参数对纳米点阵的影响 | 第32-40页 |
| ·光刻胶厚度对纳米点阵的影响 | 第32-34页 |
| ·光栅材料对纳米点阵的影响 | 第34-35页 |
| ·光栅周期对纳米点阵的影响 | 第35页 |
| ·光栅狭缝对纳米点阵的影响 | 第35-37页 |
| ·入射光波长对纳米点阵的影响 | 第37-38页 |
| ·金属层的厚度对纳米点阵的影响 | 第38页 |
| ·光栅栅线相对方位对纳米点阵排布的影响 | 第38-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第四章 基于像空间表面等离子体共振腔的超透镜成像 | 第41-53页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·基于表面等离子体共振腔的超透镜成像结构 | 第41-42页 |
| ·超透镜成像系统数值模拟 | 第42-47页 |
| ·超透镜成像系统理论分析 | 第47-52页 |
| ·传输矩阵 | 第47-50页 |
| ·理论分析 | 第50-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第五章 总结与展望 | 第53-55页 |
| ·总结 | 第53页 |
| ·展望 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-60页 |
| 攻读硕士学位期间公开发表的论文 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |