超透镜（Superlens）光刻技术的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| ·光刻技术概述及面临的挑战 | 第10-13页 |
| ·下一代光刻技术 - -纳米光刻技术 | 第13-15页 |
| ·超透镜光刻的发展历史 | 第15-17页 |
| ·论文的主要内容 | 第17-19页 |
| 第二章 超透镜光刻成像原理与设计 | 第19-40页 |
| ·左手材料的特性 | 第19-23页 |
| ·左手材料中电磁波的传播特性 | 第19-21页 |
| ·左手材料的负折射特性 | 第21-23页 |
| ·超透镜成像理论 | 第23-31页 |
| ·完美透镜成像 | 第23-27页 |
| ·超透镜成像 | 第27-31页 |
| ·超透镜光刻模型设计 | 第31-39页 |
| ·超透镜光刻模型 | 第31-32页 |
| ·介质层厚度设计 | 第32-35页 |
| ·FDTD 模拟成像 | 第35-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第三章 自组装方法制备微纳米结构 | 第40-55页 |
| ·胶体微球中的纳米科技 | 第41-44页 |
| ·聚苯乙烯微球的制备 | 第44-47页 |
| ·PS 球自组装单层膜 | 第47-53页 |
| ·微球自组装技术介绍 | 第47-49页 |
| ·影响自组装效果的因素 | 第49-51页 |
| ·自组装微球单层膜的新方法 | 第51-53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 第四章 超透镜光刻实验 | 第55-70页 |
| ·超透镜光刻结构 | 第55-56页 |
| ·超透镜光刻实验过程 | 第56-67页 |
| ·掩模的制作 | 第56-61页 |
| ·间隔层 1 的制作 | 第61-64页 |
| ·银层的制作 | 第64-65页 |
| ·间隔层 2 的制作 | 第65-66页 |
| ·旋涂光刻胶与曝光 | 第66-67页 |
| ·光刻成像结果与讨论 | 第67-69页 |
| ·微米级超透镜光刻 | 第67-68页 |
| ·纳米级超透镜光刻 | 第68-69页 |
| ·本章小结 | 第69-70页 |
| 第五章 总结与展望 | 第70-72页 |
| ·结论 | 第70页 |
| ·下一步工作展望 | 第70-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-77页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第77-78页 |
