| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-17页 |
| ·课题的提出 | 第8-10页 |
| ·国内外研究现状 | 第10-15页 |
| ·CMP相关研究 | 第10-12页 |
| ·光刻相关研究 | 第12-15页 |
| ·本文的主要工作 | 第15-17页 |
| 2 相关工艺及冗余金属填充方法介绍 | 第17-33页 |
| ·化学机械抛光工艺及建模 | 第17-26页 |
| ·工艺介绍 | 第17-19页 |
| ·工艺模型建立 | 第19-21页 |
| ·冗余金属介绍 | 第21-26页 |
| ·光刻工艺介绍 | 第26-30页 |
| ·工艺简介 | 第26-27页 |
| ·工艺参数 | 第27-30页 |
| ·大马士革工艺 | 第30-33页 |
| 3 冗余金属带来的光刻影响 | 第33-46页 |
| ·考虑局部失焦程度的光刻仿真方法学 | 第33-41页 |
| ·仿真原理 | 第33-35页 |
| ·设计流程 | 第35-41页 |
| ·冗余金属对版图的光刻影响 | 第41-46页 |
| ·光学邻近效应影响 | 第41-44页 |
| ·失焦影响 | 第44-46页 |
| 4 考虑失焦影响的冗余金属填充方法 | 第46-54页 |
| ·方法实现 | 第46-50页 |
| ·实验结果 | 第50-54页 |
| 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |