动态掩模微光刻系统开发及其在液晶光控取向中的应用研究

摘要	第1-6页
Abstract	第6-10页
第一章 绪论	第10-32页
·光刻加工技术概述	第10-12页
·扫描直写及投影光刻技术	第12-19页
·激光扫描直写式光刻	第14-16页
·基于液晶的投影式光刻	第16-17页
·基于微镜的投影式光刻	第17-19页
·液晶取向技术	第19-24页
·液晶传统取向技术	第19-20页
·液晶光控取向技术	第20-24页
·本论文研究内容与目的	第24-26页
参考文献	第26-32页
第二章 动态掩模微光刻系统开发	第32-59页
·投影式微光刻系统光学设计	第32-35页
·光源部分	第35-36页
·光束整形控制部分	第36-37页
·动态掩模生成部分	第37-42页
·掩模图形成像部分	第42-52页
·像差	第42-48页
·衍射	第48-50页
·投影物镜设计	第50-52页
·工件台部分	第52-55页
·系统搭建及调校	第55-57页
·本章小结	第57-58页
参考文献	第58-59页
第三章 基于DMD系统的液晶光控取向	第59-73页
·液晶多畴结构图案设计	第59-60页
·多种用途的液晶样品制备	第60-63页
·SD1取向层液晶样品制备	第60-62页
·PI取向层液晶样品制备	第62-63页
·液晶光控取向实验	第63-65页
·实验结果与讨论	第65-71页
·周期及非周期液晶光栅	第65-66页
·可擦写液晶光控取向	第66-68页
·序列及随机灰度取向模型	第68-70页
·大面积液晶光控取向	第70-71页
·本章小结	第71-72页
参考文献	第72-73页
第四章 总结	第73-75页
攻读硕士学位论文期间己发表的论文	第75-76页
致谢	第76-78页