| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-16页 |
| ·LIGA技术简述 | 第7-10页 |
| ·UV-LIGA技术介绍 | 第10-13页 |
| ·光刻工艺的种类 | 第13-15页 |
| ·本文研究的主要内容及研究意义 | 第15-16页 |
| 第二章 紫外厚胶深光刻工艺基础理论 | 第16-30页 |
| ·硅片清洗工艺机理 | 第16-20页 |
| ·光刻胶的组成及属性 | 第20-26页 |
| ·紫外厚胶深光刻技术工艺流程 | 第26-30页 |
| 第三章 紫外厚胶深光刻技术实验研究 | 第30-37页 |
| ·紫外厚胶深光刻实验设备介绍 | 第30-32页 |
| ·紫外厚胶深光刻实验设计 | 第32-35页 |
| ·制备SU-8胶微结构的工艺参数 | 第35-37页 |
| 第四章 紫外厚胶深光刻技术工艺实验结果分析及讨论 | 第37-47页 |
| ·前烘温度及时间对光刻的影响 | 第37页 |
| ·曝光时间对制备微结构的影响 | 第37-38页 |
| ·后烘温度及时间对制备微结构的影响 | 第38-39页 |
| ·显影时间对制备微结构的影响 | 第39-40页 |
| ·紫外厚胶深光刻实验结果分析 | 第40-45页 |
| ·紫外厚胶深光刻工艺参数的改善 | 第45-47页 |
| 结论 | 第47-48页 |
| 致谢 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-50页 |