| 致谢 | 第1-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·投影式光刻机和光刻技术的简介与发展趋势 | 第11-18页 |
| ·投影式光刻机简介 | 第11-13页 |
| ·光刻机发展趋势 | 第13-15页 |
| ·分辨力增强技术 | 第15-18页 |
| ·光刻仿真的重要性和意义 | 第18-20页 |
| ·论文主要研究内容及结构安排 | 第20-21页 |
| ·论文主要研究内容 | 第20页 |
| ·论文的结构安排 | 第20-21页 |
| ·小结 | 第21-22页 |
| 第2章 影响光刻性能的因素分析 | 第22-29页 |
| ·光刻性能的评价指标 | 第22-24页 |
| ·空间像对比度 | 第22页 |
| ·归一化对数斜率 NILS | 第22-23页 |
| ·线宽偏差 | 第23页 |
| ·曝光容限和工艺窗口 | 第23-24页 |
| ·其他的光刻评价指标 | 第24页 |
| ·影响光刻性能的因素分析 | 第24-28页 |
| ·照明系统性能对光刻性能影响的因素 | 第24-27页 |
| ·物镜系统性能对光刻性能影响的因素 | 第27-28页 |
| ·影响光刻性能的其他因素 | 第28页 |
| ·小结 | 第28-29页 |
| 第3章 照明性能对光刻性能影响的研究 | 第29-52页 |
| ·照明均匀性对光刻性能影响 | 第29-32页 |
| ·光瞳极平衡性对光刻性能的影响 | 第32-38页 |
| ·光瞳极平衡性对光刻性能的影响理论分析 | 第32-33页 |
| ·存在极不平衡性时，数值孔径 NA 和相干因子σ对光刻性能影响的仿真分析 | 第33-35页 |
| ·极平衡性对水平和竖直方向线条的影响 | 第35-38页 |
| ·光瞳偏心对光刻性能的影响 | 第38-43页 |
| ·光瞳偏心对光刻性能影响的理论分析 | 第38-39页 |
| ·存在光瞳偏心时，数值孔径 NA 和相干因子σ对光刻性能影响的仿真分析 | 第39-41页 |
| ·光瞳偏心对水平和竖直方向线条的影响 | 第41-43页 |
| ·光瞳椭圆度对光刻性能的影响 | 第43-44页 |
| ·偏振性能对光刻性能的影响 | 第44-51页 |
| ·偏振照明对光刻性能的影响分析 | 第44-46页 |
| ·偏振照明对一维图形成像质量影响的研究 | 第46-47页 |
| ·非理想光瞳情况下，偏振照明对光刻性能的影响 | 第47-51页 |
| ·小结 | 第51-52页 |
| 第4章 物镜像差对光刻性能的影响仿真分析 | 第52-64页 |
| ·单个几何像差对光刻成像质量影响 | 第53-59页 |
| ·单个几何像差对一维图形光刻成像质量影响的敏感度 | 第53-57页 |
| ·单个几何像差对二维图形光刻成像质量影响 | 第57-59页 |
| ·波像差对光刻成像质量影响的研究 | 第59-61页 |
| ·小结 | 第61-64页 |
| 第5章 总结与展望 | 第64-66页 |
| ·主要工作 | 第64-65页 |
| ·论文研究的不足及后续研究 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-68页 |
| 附录 Zernike 像差和表达式 | 第68-70页 |
| 作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第70页 |