部分相干照明下的光刻掩模图形优化方法研究

摘要	第1-5页
Abstract	第5-6页
目录	第6-8页
1 绪论	第8-14页
·课题来源	第8页
·选题意义及背景	第8-9页
·国内外研究概况	第9-12页
·本文的主要研究内容	第12-14页
2 分相干成像系统空间像快速计算方法	第14-25页
·基于部分相干成像系统的光刻成像模型表示	第14-15页
·部分相干成像系统交叉传递函数的计算	第15-16页
·基于相干成像系统叠加光刻空间像快速计算	第16-18页
·交叉传递函数与空间像仿真计算及精度比较	第18-23页
·本章小结	第23-25页
3 基于多边形表征的光刻掩模图形优化方法	第25-35页
·基于单个基本掩模的查表法空间像快速计算方法	第25-28页
·基于多边形表征的掩模优化应用流程	第28-31页
·基于多边形表征的光刻掩模优化仿真实验	第31-34页
·本章小结	第34-35页
4 基于像素表征的光刻掩模图形优化方法	第35-49页
·基于最速梯度下降的像素掩模图形优化方法	第35-39页
·基于正则化的掩模优化可制造性分析	第39-43页
·基于像素表征的光刻掩模图形优化仿真分析	第43-48页
·本章小结	第48-49页
5 总结与展望	第49-51页
·全文总结	第49页
·展望	第49-51页
致谢	第51-52页
参考文献	第52-55页
附录 攻读学位期间发表论文目录	第55页