| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-15页 |
| ·论文研究背景及意义 | 第7-8页 |
| ·二元光学器件的研究及发展概况 | 第8-13页 |
| ·论文研究目的和内容 | 第13-15页 |
| 第二章 光刻掩模的设计与制作 | 第15-36页 |
| ·光刻掩模的设计 | 第15-20页 |
| ·激光直接写入系统 | 第20-21页 |
| ·极坐标激光直接写入系统原理与构成 | 第21-31页 |
| ·掩模的激光直写制作 | 第31-35页 |
| ·误差分析 | 第35-36页 |
| 第三章 八阶二元光学器件的光刻 | 第36-52页 |
| ·光刻技术现状 | 第36-37页 |
| ·紫外光刻设备 | 第37-39页 |
| ·光刻工艺过程 | 第39-52页 |
| 第四章 八阶二元光学器件的蚀刻成型 | 第52-63页 |
| ·蚀刻方法 | 第52-56页 |
| ·八阶二元光学器件的反应离子束蚀刻 | 第56-63页 |
| 第五章 结果及误差分析 | 第63-73页 |
| ·实验结果 | 第63页 |
| ·误差种类 | 第63-64页 |
| ·误差对衍射效率的影响 | 第64-73页 |
| 总结 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-76页 |