| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-16页 |
| ·课题的研究背景 | 第9-10页 |
| ·光刻技术的国内外研究概况 | 第10-11页 |
| ·国外光刻技术的发展 | 第10页 |
| ·我国光刻技术的发展 | 第10-11页 |
| ·传统的几种光刻方法 | 第11-12页 |
| ·电子束光刻技术（EBL） | 第11页 |
| ·X 射线光刻技术（XRL） | 第11-12页 |
| ·离子束光刻技术（IBL） | 第12页 |
| ·数字光刻技术（Digital Lithography） | 第12-14页 |
| ·数字光刻技术介绍 | 第12-13页 |
| ·数字光刻控制系统研究现状 | 第13-14页 |
| ·论文的研究思路和内容安排 | 第14-16页 |
| ·论文的研究思路 | 第14页 |
| ·论文的内容安排 | 第14-16页 |
| 第2章 硬件控制系统设计 | 第16-26页 |
| ·系统整体结构 | 第16页 |
| ·硬件功能规划 | 第16-18页 |
| ·数字微镜 DMD 系统 | 第18-20页 |
| ·数字微镜 DMD | 第18-20页 |
| ·数字微镜 DMD 驱动系统 | 第20页 |
| ·程控精密定位系统 | 第20-23页 |
| ·程控精密曝光系统 | 第23-24页 |
| ·精密实时监测系统 | 第24-25页 |
| ·小结 | 第25-26页 |
| 第3章 控制系统软件设计 | 第26-39页 |
| ·控制系统软件概述 | 第26-28页 |
| ·精密定位控制技术 | 第28-29页 |
| ·系统硬件端口访问 | 第29-33页 |
| ·利用控件提供的端口访问函数来完成 | 第30页 |
| ·利用 MSComm 控件来实现串口通信 | 第30-32页 |
| ·利用对话框来对串口通信的初始化 | 第32-33页 |
| ·精密定位功能的实现 | 第33-34页 |
| ·曝光控制功能的实现 | 第34-36页 |
| ·CCD 监视功能的实现 | 第36-38页 |
| ·小结 | 第38-39页 |
| 第4章 掩模图形输出控制研究 | 第39-52页 |
| ·掩模图形输出控制系统的组成 | 第39-41页 |
| ·数字掩模图形的设计原理 | 第41-44页 |
| ·数字掩模图设计的一般理论 | 第41-42页 |
| ·数字掩模图设计的标量理论 | 第42-44页 |
| ·几种微光学元件的设计 | 第44-46页 |
| ·二元光栅的设计 | 第44-45页 |
| ·环形光栅的设计 | 第45-46页 |
| ·菲涅耳波带片的设计 | 第46页 |
| ·数字掩模图形的设计与输出 | 第46-50页 |
| ·输出控制的运行环境 | 第47页 |
| ·控制程序设计 | 第47-50页 |
| ·掩模图形的输出控制 | 第50页 |
| ·小结 | 第50-52页 |
| 第5章 数字光刻控制系统实验研究 | 第52-59页 |
| ·实验系统介绍 | 第52-53页 |
| ·数字光刻系统的实验工艺 | 第53-56页 |
| ·硅片预处理 | 第53-54页 |
| ·涂胶 | 第54页 |
| ·前烘 | 第54-55页 |
| ·曝光 | 第55页 |
| ·显影 | 第55页 |
| ·后烘 | 第55-56页 |
| ·实验制作 | 第56-57页 |
| ·二元光栅光刻实验 | 第56-57页 |
| ·二阶圆环光刻实验 | 第57页 |
| ·系统性能分析 | 第57-58页 |
| ·小结 | 第58-59页 |
| 第6章 结论与展望 | 第59-61页 |
| ·全文总结 | 第59页 |
| ·研究展望 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第65-66页 |