| 致谢 | 第1-5页 |
| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-29页 |
| ·光刻技术简介与发展历程 | 第12-15页 |
| ·光刻技术简介 | 第12-13页 |
| ·光刻技术发展历程 | 第13-15页 |
| ·CD 均匀性的研究现状 | 第15-22页 |
| ·CD 均匀性的主要影响因素 | 第15-16页 |
| ·杂散光对CD 均匀性的影响 | 第16-18页 |
| ·像差对CD 均匀性的影响 | 第18-20页 |
| ·偏振光对CD 均匀性的影响 | 第20-22页 |
| ·CD 误差控制中存在的问题 | 第22页 |
| ·本课题的研究内容与研究目标 | 第22-24页 |
| ·杂散光对CD 均匀性影响与控制的研究 | 第22页 |
| ·像差对CD 均匀性影响及控制的研究 | 第22-23页 |
| ·偏振光对CD 均匀性影响与控制的研究 | 第23页 |
| ·本课题研究目标 | 第23-24页 |
| ·本论文的结构安排 | 第24-25页 |
| ·本章小结 | 第25页 |
| 参考文献 | 第25-29页 |
| 第二章 杂散光对CD 均匀性影响与控制的研究 | 第29-47页 |
| ·杂散光对CD 均匀性的影响 | 第29-31页 |
| ·杂散光引起CD 误差的常用控制方法 | 第31-32页 |
| ·杂散光对CD 均匀性影响的研究 | 第32-41页 |
| ·曝光参数和工艺参数的设定 | 第32-34页 |
| ·杂散光对CD 均匀性影响的研究 | 第34-41页 |
| ·对杂散光引起的CD 误差的控制与有效补偿 | 第41-45页 |
| ·调整曝光剂量补偿杂散光引起的CD 误差 | 第41-42页 |
| ·利用曝光剂量补偿杂散光引起的CD 误差的效果 | 第42-45页 |
| ·本章小结 | 第45页 |
| 参考文献 | 第45-47页 |
| 第三章 像差对CD 均匀性影响与控制的研究 | 第47-71页 |
| ·几何像差与波像差的关系 | 第47-48页 |
| ·典型几何像差对成像质量的影响 | 第48-49页 |
| ·CD 的像差敏感度计算方法 | 第49-50页 |
| ·像差敏感度批量计算的程序设计 | 第50-52页 |
| ·编制目的 | 第50页 |
| ·程序总体设计框图 | 第50-51页 |
| ·程序的详细说明 | 第51-52页 |
| ·像差对CD 均匀性影响的研究 | 第52-68页 |
| ·波像差对一维图形CD 均匀性影响的研究 | 第53-55页 |
| ·几何像差对L 形图形CD 均匀性影响的研究 | 第55-57页 |
| ·几何像差对拼接图形CD 均匀性影响的研究 | 第57-59页 |
| ·像差组合对CD 均匀性影响的研究 | 第59-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-71页 |
| 第四章 光线偏振状态对CD 均匀性影响与控制的研究 | 第71-90页 |
| ·光刻系统中典型偏振光与其成像性能比较 | 第71-72页 |
| ·偏振光对光刻性能的影响与控制 | 第72-73页 |
| ·光线偏振状态优化设置的程序设计 | 第73-77页 |
| ·编制目的 | 第73-74页 |
| ·程序总体设计框图 | 第74页 |
| ·程序的详细说明 | 第74-77页 |
| ·光线偏振状态对CD 均匀性影响的研究 | 第77-86页 |
| ·光线偏振状态对一维图形CD 均匀性影响的研究 | 第77-80页 |
| ·光线偏振状态对L 形图形CD 均匀性影响的研究 | 第80-82页 |
| ·光线偏振状态对拼接图形CD 均匀性影响的研究 | 第82-84页 |
| ·光线偏振状态对一维图形光刻工艺窗口影响的研究 | 第84-86页 |
| ·利用偏振光提高CD 均匀性与拓展光刻工艺窗口 | 第86-88页 |
| ·本章小结 | 第88页 |
| 参考文献 | 第88-90页 |
| 第五章 多因素对CD 均匀性综合影响与控制的研究 | 第90-110页 |
| ·优化光学参数设置的程序设计 | 第90-93页 |
| ·编制目的 | 第90-91页 |
| ·程序总体设计框图 | 第91页 |
| ·程序的详细说明 | 第91-93页 |
| ·多因素对像差敏感度综合影响的研究 | 第93-100页 |
| ·杂散光对像差敏感度影响的研究 | 第94-95页 |
| ·MSD 对像差敏感度影响的研究 | 第95-96页 |
| ·偏振光对像差敏感度影响的研究 | 第96-98页 |
| ·三种因素对像差敏感度的影响的比较 | 第98页 |
| ·杂散光和偏振光对像差敏感度综合影响的研究 | 第98-99页 |
| ·MSD 和偏振光对像差敏感度综合影响的研究 | 第99-100页 |
| ·利用偏振光补偿掩模缺陷引起的CD 误差的研究 | 第100-102页 |
| ·曝光参数和工艺参数设置 | 第100-101页 |
| ·掩模缺陷对拼接图形CD 均匀性影响的研究 | 第101页 |
| ·调整光线偏振状态改善CD 均匀性的研究 | 第101-102页 |
| ·降低CD 的像差敏感度的研究 | 第102-108页 |
| ·图形密度对像差敏感度影响的研究 | 第103-104页 |
| ·数值孔径对像差敏感度影响的研究 | 第104-106页 |
| ·相移掩模对像差敏感度影响的研究 | 第106-108页 |
| ·控制像差敏感度的有效方法 | 第108页 |
| ·本章小结 | 第108-109页 |
| 参考文献 | 第109-110页 |
| 第六章 结论与展望 | 第110-114页 |
| ·本课题研究工作取得的进展 | 第110-112页 |
| ·本课题的创新点 | 第112-113页 |
| ·研究工作展望 | 第113-114页 |
| 附录一 ZERNIKE 像差和表达式 | 第114-116页 |
| 附录二 表格索引 | 第116-117页 |
| 附录三 插图索引 | 第117-121页 |
| 附录四 像差敏感度批量计算程序的流程图 | 第121-125页 |
| 附录五 光线偏振态优化设置程序的流程图 | 第125-130页 |
| 附录六 优化光学参数设置程序的流程图 | 第130-132页 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文目录 | 第132-134页 |
| 论文答辩说明 | 第134页 |
| 关于论文使用授权的说明 | 第134页 |