| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-43页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·“自上而下” (top-down) 的图案化技术 | 第12-16页 |
| ·光刻技术 | 第12-13页 |
| ·扫描探针印刷技术 | 第13-14页 |
| ·软刻技术 | 第14-15页 |
| ·物理接触复膜技术 | 第15-16页 |
| ·“自下而上” (bottom-up) 的图案化技术 | 第16-20页 |
| ·Langmuir-Blodgett (LB) 单分子膜图案化技术 | 第16-18页 |
| ·嵌段共聚物刻蚀技术 | 第18-19页 |
| ·胶体刻蚀技术 | 第19-20页 |
| ·胶体刻蚀技术构筑的图案化表面 | 第20-34页 |
| ·利用胶体刻蚀技术构筑三角纳米粒子阵列 | 第20-21页 |
| ·利用胶体刻蚀技术构筑纳米棒/柱/线阵列 | 第21-25页 |
| ·利用胶体刻蚀技术构筑纳米环阵列 | 第25-27页 |
| ·利用胶体刻蚀技术构筑纳米点阵列 | 第27页 |
| ·利用胶体刻蚀技术构筑空心球阵列 | 第27-28页 |
| ·利用胶体刻蚀技术构筑纳米碗阵列 | 第28-31页 |
| ·利用胶体刻蚀技术构筑纳米月牙阵列 | 第31-33页 |
| ·利用胶体刻蚀技术构筑纳米孔阵列 | 第33-34页 |
| ·胶体刻蚀技术构筑的图案化表面的应用 | 第34-41页 |
| ·传感器领域 | 第34-35页 |
| ·能源相关领域 | 第35-36页 |
| ·表面亲疏水领域 | 第36-38页 |
| ·场发射器件领域 | 第38-39页 |
| ·减反射领域 | 第39-40页 |
| ·表面辅助激光解吸电离质谱领域 | 第40-41页 |
| ·本文的研究思路及主要研究内容 | 第41-43页 |
| 第二章 仿生硅锥阵列在生物小分子中的检测 | 第43-63页 |
| ·引言 | 第43-44页 |
| ·实验部分 | 第44-47页 |
| ·仪器和试剂 | 第44-45页 |
| ·聚苯乙烯纳米球单层膜的组装 | 第45-46页 |
| ·反应离子刻蚀过程 | 第46页 |
| ·分析物样品制备及质谱测试 | 第46-47页 |
| ·结果与讨论 | 第47-62页 |
| ·仿生硅锥阵列的制备 | 第47-51页 |
| ·硅锥阵列在激光解析电离过程中影响 | 第51-57页 |
| ·硅锥阵列在小分子检测及其实际测试应用 | 第57-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第三章 二次胶体球刻蚀构筑仿生多尺度褶皱硅锥阵列 | 第63-88页 |
| ·引言 | 第63-64页 |
| ·实验部分 | 第64-67页 |
| ·仪器和试剂 | 第64-65页 |
| ·聚苯乙烯纳米球单层膜的组装 | 第65-66页 |
| ·反应离子刻蚀过程 | 第66-67页 |
| ·结果与讨论 | 第67-86页 |
| ·不同形状、不同周期硅阵列的构筑 | 第67-77页 |
| ·二次刻蚀构筑多尺度褶皱硅锥阵列 | 第77-80页 |
| ·多尺度褶皱硅锥阵列的减反射性能 | 第80-84页 |
| ·多尺度褶皱阵列在纳米线中的应用及其超疏水性能 | 第84-86页 |
| ·本章小结 | 第86-88页 |
| 第四章 构筑高重复性表面拉曼增强基底 | 第88-103页 |
| ·引言 | 第88-89页 |
| ·实验部分 | 第89-91页 |
| ·仪器和试剂 | 第89页 |
| ·聚苯乙烯纳米球单层膜的组装 | 第89-90页 |
| ·反应离子刻蚀过程 | 第90页 |
| ·OTS 单层膜的修饰及其图案化 | 第90页 |
| ·湿法刻蚀过程 | 第90-91页 |
| ·拉曼光谱测试 | 第91页 |
| ·结果与讨论 | 第91-102页 |
| ·金字塔状硅倒锥阵列的构筑 | 第91-95页 |
| ·银金字塔阵列的构筑及其拉曼性能测试 | 第95-102页 |
| ·本章小结 | 第102-103页 |
| 参考文献 | 第103-122页 |
| 攻读博士学位期间所发表的论文 | 第122-125页 |
| 作者简历 | 第125-126页 |
| 致谢 | 第126页 |
