基于多刚体动力学模型的硅片台运动控制分析

摘要	第1-5页
Abstract	第5-8页
1 绪论	第8-15页
·课题的来源、背景及意义	第8-9页
·光刻机硅片台的研究现状	第9-11页
·多刚体动力学的研究现状	第11-12页
·光刻机硅片台控制策略的研究现状	第12-13页
·主要研究内容	第13-15页
2 硅片台的硬件组成和特点	第15-22页
·引言	第15页
·硅片台的机械结构	第15-20页
·硅片台的控制策略	第20-21页
·小结	第21-22页
3 硅片台多刚体动力学建模与分析	第22-32页
·引言	第22-23页
·多刚体动力学建模工具	第23-24页
·多刚体动力学模型	第24-26页
·模型验证	第26-28页
·硅片台动力学特性分析	第28-31页
·小结	第31-32页
4 硅片台运动控制仿真分析	第32-46页
·引言	第32页
·控制相关理论	第32-34页
·反馈控制器设计	第34-40页
·前馈控制	第40-41页
·运动控制仿真分析	第41-45页
·小结	第45-46页
5 硅片台动力学与控制仿真分析平台	第46-54页
·引言	第46页
·仿真分析平台的功能规划	第46-49页
·仿真分析平台的设计实现	第49-51页
·仿真分析及实例	第51-53页
·小结	第53-54页
6 总结与展望	第54-56页
·全文总结	第54页
·研究展望	第54-56页
致谢	第56-57页
参考文献	第57-59页